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真空鍍膜廠-溫州鍍膜-恒緣鈦金值得信賴(查看)

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發(fā)布時(shí)間:2020-12-15 10:11  





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恒緣鈦金與您分享電鍍中脫脂到底有幾個(gè)分類?

電鍍前處理的脫脂分為超聲波脫脂、熱脫脂、電解脫脂這三種,真空鍍膜廠,電解脫脂還分為陰極電解脫脂和陽(yáng)極電解脫脂兩種。

脫脂是為去掉電鍍產(chǎn)品表面的油污,為后面的電鍍鍍層沉積提供所需要的電鍍表面,讓產(chǎn)品的膜層結(jié)合力更加好。

恒緣鈦金廠將竭誠(chéng)為您提供周到的表面處理加工服務(wù)。歡迎您致電圖片上方的聯(lián)系方式。


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真空鍍膜是在真空中將鈦、金、石墨、水晶等金屬或非金屬、氣體等材料利用濺射、蒸發(fā)或離子鍍等技術(shù), 在基材上形成薄膜的一種表面處理過程。與傳統(tǒng)化學(xué)鍍膜方法相比,真空鍍膜有很多優(yōu)點(diǎn):如對(duì)環(huán)境無(wú)污 染,是綠色環(huán)保工藝;對(duì)操作者無(wú)傷害;膜層牢固、致密性好、抗腐蝕性強(qiáng),膜厚均勻。

真空鍍膜技術(shù)中經(jīng)常使用的方法主要有:蒸發(fā)鍍膜(包括電弧蒸發(fā)、電子槍蒸發(fā)、電阻絲蒸發(fā)等技術(shù))、濺射鍍膜(包 括直流磁控濺射、中頻磁控濺射、射頻濺射等技術(shù)),這些方法統(tǒng)稱物理氣相沉積, 簡(jiǎn)稱為PVD。與之對(duì)應(yīng)的化學(xué)氣相沉積簡(jiǎn)稱為CVD技術(shù)。行業(yè)內(nèi)通常所說(shuō)的“IP”(ion plating)離子鍍膜,是因?yàn)樵赑VD技術(shù)中各種氣體離子和金屬離子參與成膜過程并起到重要作用,溫州鍍膜,為了強(qiáng)調(diào)離子的作 用,而統(tǒng)稱為離子鍍膜。

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恒緣鈦金與您分享分享過程中影響膜均勻性的因素有哪些


薄膜均勻性的概念:

1.厚度上的均勻性,也可以理解為粗糙度,在光學(xué)薄膜的尺度上看(也就是1/10波長(zhǎng)作為單位,約為100A),真空鍍膜的均勻性已經(jīng)相當(dāng)好,可以輕松將粗糙度控制在可見光波長(zhǎng)的1/10范圍內(nèi),也就是說(shuō)對(duì)于薄膜的光學(xué)特性來(lái)說(shuō),真空鍍膜沒有任何障礙。但是如果是指原子層尺度上的均勻度,也就是說(shuō)要實(shí)現(xiàn)10A甚至1A的表面平整,是現(xiàn)在真空鍍膜中主要的技術(shù)含量與技術(shù)瓶頸所在,具體控制因素下面會(huì)根據(jù)不同鍍膜給出詳細(xì)解釋。

2.化學(xué)組分上的均勻性:就是說(shuō)在薄膜中,化合物的原子組分會(huì)由于尺度過小而很容易的產(chǎn)生不均勻特性,SiTiO3薄膜,如果鍍膜過程不科學(xué),那么實(shí)際表面的組分并不是SiTiO3,而可能是其他的比例,鍍的膜并非是想要的膜的化學(xué)成分,這也是真空鍍膜的技術(shù)含量所在。

3.晶格有序度的均勻性:這決定了薄膜是單晶,多晶,非晶,是真空鍍膜技術(shù)中的熱點(diǎn)問題,具體見下。

主要分類有兩個(gè)大種類:蒸發(fā)沉積鍍膜和濺射沉積鍍膜,具體則包括很多種類,包括真空離子蒸發(fā),磁控濺射,MBE分子束外延,溶膠凝膠法等等




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真空鍍膜廠-溫州鍍膜-恒緣鈦金值得信賴(查看)由武義縣恒緣鈦金廠提供。武義縣恒緣鈦金廠堅(jiān)持“以人為本”的企業(yè)理念,擁有一支技術(shù)過硬的員工隊(duì)伍,力求提供更好的產(chǎn)品和服務(wù)回饋社會(huì),并歡迎廣大新老客戶光臨惠顧,真誠(chéng)合作、共創(chuàng)美好未來(lái)。恒緣鈦金——您可信賴的朋友,公司地址:武義縣東南工業(yè)園區(qū)(雙路亭),聯(lián)系人:金先生。

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電話: 0579-87980323

地址: 武義縣東南工業(yè)園區(qū)(雙路亭)

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