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我國真空鍍膜機(jī)行業(yè)發(fā)展現(xiàn)狀和前景分析
我國鍍膜機(jī)械,經(jīng)過了幾十年發(fā)展,形成了門類齊全、布局合理,品種配套,真空鍍膜技術(shù)水平與鍍膜工業(yè)發(fā)展基本適應(yīng)的體系,真空鍍膜設(shè)備已經(jīng)不能再叫新行業(yè)了,其是一個(gè)有創(chuàng)新能力的成熟行業(yè),鍍膜技術(shù)從重污染轉(zhuǎn)為輕污染直至以后的無污染,創(chuàng)新是前提,隨著更新型節(jié)能環(huán)保的真空機(jī)械設(shè)備研發(fā)必將改變整個(gè)工業(yè)。
創(chuàng)世威納以誠信為首,服務(wù)至上為宗旨。公司生產(chǎn)、銷售離子束刻蝕機(jī),公司擁有強(qiáng)大的銷售團(tuán)隊(duì)和經(jīng)營理念。想要了解更多信息,趕快撥打圖片上的熱線電話!
磁控濺射鍍膜機(jī)
目前認(rèn)為濺射現(xiàn)象是彈性碰撞的直接結(jié)果,濺射完全是動(dòng)能的交換過程。當(dāng)正離子轟擊陰極靶,入射離子當(dāng)初撞擊靶表面上的原子時(shí),產(chǎn)生彈性碰撞,它直接將其動(dòng)能傳遞給靶表面上的某個(gè)原子或分子,該表面原子獲得動(dòng)能再向靶內(nèi)部原子傳遞,經(jīng)過一系列的級(jí)聯(lián)碰撞過程,大樣片磁控濺射鍍膜機(jī),當(dāng)其中某一個(gè)原子或分子獲得指向靶表面外的動(dòng)量,并且具有了克服表面勢壘(結(jié)合能)的能量,它就可以脫離附近其它原子或分子的束縛,逸出靶面而成為濺射原子。
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磁控濺射鍍膜機(jī)的優(yōu)勢
1.實(shí)用性:設(shè)備集成度高,結(jié)構(gòu)緊湊,大樣片磁控濺射鍍膜機(jī)原理,占地面積小,大樣片磁控濺射鍍膜機(jī)多少錢,可以滿足客戶實(shí)驗(yàn)室空間不足的苛刻條件;通過更換設(shè)備上下法蘭可以實(shí)現(xiàn)磁控與蒸發(fā)功能的轉(zhuǎn)換,實(shí)現(xiàn)一機(jī)多用;
2.方便性:設(shè)備需要拆卸的部分均采用即插即用的方式,接線及安裝調(diào)試簡單,既保證了設(shè)備使用方便又保證了設(shè)備的整潔;
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