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擴(kuò)散硅壓力傳感器的基本原理
壓力傳感器的制造中一般利用集成電路平面工藝,用雜志擴(kuò)散或離子注入的方法形成電阻器。擴(kuò)散層被用來(lái)作為應(yīng)力或應(yīng)變敏感的電阻器,電流邊與擴(kuò)散層被用來(lái)作為應(yīng)力或應(yīng)變敏感的電阻器,電流便與擴(kuò)散層表面平行流過(guò)電阻器。在壓力傳感器的設(shè)計(jì)。制造時(shí),需要了解不同溫度下硅擴(kuò)散層的壓阻特性,選擇合適的擴(kuò)散條件,選用一定型號(hào)、晶向的擴(kuò)散電阻以獲得較高的靈敏度和曉得靈敏度系數(shù),力求使壓力傳感器有良好的性能。
擴(kuò)散層的平均壓阻系數(shù):擴(kuò)散層中雜質(zhì)往往呈誤差函數(shù)(恒定表面源條件下)或余誤差函數(shù)(恒定表面濃度條件)分布。也就是說(shuō),表面雜質(zhì)濃度高,電流便呈現(xiàn)不均勻分布。雖然應(yīng)力在電阻的縱剖面是均勻分布的,而壓阻系數(shù)取決于雜質(zhì)濃度。以此在擴(kuò)散層上電阻的改變的百分量是不同的。這又使擴(kuò)散層中電流在縱向中心分布并造成壓阻值和應(yīng)力之間的非線性。
擴(kuò)散層硅的電阻溫度特性與壓力傳感器的熱零點(diǎn)漂移以及熱靈敏度有密切的關(guān)系。
擴(kuò)散硅壓力傳感器
硅傳感器,是用于醫(yī)學(xué)、軍事與航空航天、工業(yè)和汽車應(yīng)用?;驹硎抢冒雽?dǎo)體的壓阻效應(yīng)和微機(jī)械加工技術(shù),在單晶硅片的特定晶向上,用光刻、擴(kuò)散等半導(dǎo)體工藝制做一惠斯登電橋,形成敏感膜片,當(dāng)受到外力作用時(shí)產(chǎn)生微應(yīng)變,電阻率發(fā)生變化,使橋臂電阻發(fā)生變化(一對(duì)變大一對(duì)變?。┰诩?lì)電壓信號(hào)輸出,經(jīng)過(guò)計(jì)算機(jī)溫度補(bǔ)償、激光調(diào)阻、信號(hào)放大等處理手段和嚴(yán)格的裝配檢測(cè)、標(biāo)定等工藝,生產(chǎn)出具有標(biāo)準(zhǔn)輸出信號(hào)的壓力變送器.
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壓力傳感器
壓力變送器主要特點(diǎn)抗過(guò)載和抗沖擊能力強(qiáng),過(guò)壓可達(dá)量程的數(shù)倍,甚至用硬物直接敲打測(cè)量元件也不致使其損壞,且對(duì)測(cè)量精度毫無(wú)影響;穩(wěn)定性高,每年優(yōu)于0.1%滿量程,這個(gè)技術(shù)指標(biāo)已達(dá)到智能 型壓力儀表水平;溫度漂移小,由于取消了壓力測(cè)量元件中的中介液,因而傳感器不僅獲得了很高的 測(cè)量精度,且受溫度梯度影響;壓力變送器適用性廣、安裝維護(hù)方便、可任意位置安裝。
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