微弧氧化膜層生長(zhǎng)發(fā)育時(shí)，先在基體表面產(chǎn)生放熱反應(yīng)，轉(zhuǎn)化成一層陽(yáng)極處理膜。當(dāng)擴(kuò)大反映電壓時(shí)，膜層厚度會(huì)進(jìn)一步增加，微弧氧化電源，再次增加電壓，100kw微弧氧化電源，厚度會(huì)隨著增加。可是當(dāng)反映電壓增加到一定水平時(shí)，膜層會(huì)因?yàn)椴豢梢猿袚?dān)該工作電壓產(chǎn)生充放電且熱擊穿，造成低溫等離子充放電。反映的高溫將使膜層產(chǎn)生熔化，基體原素因?yàn)樘幱诟谎踝匀画h(huán)境中，將產(chǎn)生化合物。另外因?yàn)槭窃阡囯姵仉娊庖褐校刍飳⒁凰查g冷凝器，在基體表面轉(zhuǎn)化成一層瓷器。陶瓷膜的轉(zhuǎn)化成，將造成工作電壓進(jìn)一步上升，膜層再度被熱擊穿，膜層厚度進(jìn)一步增加。循環(huán)反復(fù)，膜層足以生長(zhǎng)發(fā)育。

微弧氧化技術(shù)工藝優(yōu)點(diǎn)

微弧氧化處理既與電鍍鋅等消耗性陰極處理不同，可用非消耗性的不銹鋼作陰極，微弧氧化電源使用方法，避免了重金屬離子從陰極溶入并隨廢水流出污染環(huán)境；又與電鍍硬鉻和重（或硬）陽(yáng)極氧化等依靠消耗溶液中溶質(zhì)元素在被處理樣品表面形成保護(hù)膜層的工藝不同，微弧氧化處理主要在鋁、鎂等輕合金表面生成金屬自身氧化物的陶瓷層，理論上屬不消耗溶質(zhì)元素的處理工藝。因此該工藝可以被視為既不消耗陰極又基本不消耗電解液溶質(zhì)元素的清潔處理。

微弧氧化技術(shù)是一種低碳環(huán)保的興新表面工藝處理技術(shù)。適用于對(duì)鋁、鎂、鈦等輕金屬以及鋁合金的表面處理。它能合理地在PCB原材料表面上原體生長(zhǎng)發(fā)育一層勻稱(chēng)的陶瓷膜。因?yàn)槠浼庸すに囂匦燥@著，表面處理的性能優(yōu)點(diǎn)凸出，自該技術(shù)被創(chuàng)造發(fā)明至今，微弧氧化電源價(jià)格，深受大家的親睞。微弧氧化解決是一種在稀有金屬表面原點(diǎn)生長(zhǎng)發(fā)育化合物瓷器的新技術(shù)應(yīng)用。選用微弧氧化技術(shù)對(duì)鎂以及合金制品開(kāi)展表面瓷器化解決，具備加工工藝全過(guò)程簡(jiǎn)易，占地小，處理工藝能力強(qiáng)，生產(chǎn)制造速度快，適用大批量工業(yè)生產(chǎn)等優(yōu)勢(shì)。

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