Nanoscribe稱，QuantumX是世界上**基于雙光子灰度光刻技術（two-photongrayscalelithography，2GL）的工業(yè)系統(tǒng)，目前該技術正在申請專利。2GL將灰度光刻技術與Nanoscribe的雙光子聚合技術相結合，可生產折射和衍射微光學以及聚合物母版的原型。QuantumX的軟件能實時控制和監(jiān)控打印作業(yè)，并通過交互式觸摸屏控制面板進行操作。為了更好地管理和安排用戶的項目，打印隊列支持連續(xù)執(zhí)行一系列打印作業(yè)。該軟件有程序向導，可在一開始就指導設計師和工程師完成打印作業(yè)，并能夠接受任意光學設計的灰度圖像。例如，可接受高達32位分辨率的BMP、PNG或TIFF文件，以便使用Nanoscribe的QuantumX進行直接制造。在雙光子灰度光刻工藝中，激光功率調制和動態(tài)聚焦定位在高掃描速度下可實現同步進行，以便對每個掃描平面進行全體素大小控制。Nanoscribe稱，QuantumX在每個掃描區(qū)域內可產生簡單和復雜的光學形狀，具有可變的特征高度Nanoscribe將在未來在基于雙光子聚合技術的3D微納加工系統(tǒng)基礎上進一步擴大產品組合實現多樣化。上海超高精度雙光子聚合微納光刻

對準雙光子光刻技術(A2PL®)是Nanoscribe基于雙光子聚合（2PP）的一種新型專利納米微納制造技術。該技術可以將打印的結構自動對準到光纖和光子芯片上，例如用于光子封裝中的光學互連。同時高精度檢測系統(tǒng)還可以識別基準點或拓撲基底特征，確保對3D打印進行高度精確的對準。Nanoscribe對準雙光可光刻技術搭配nanoPrintX，一種基于場景圖概念的軟件工具，可用于定義對準3D打印的打印項目。樹狀數據結構提供了所有與打印相關的對象和操作的分層組織，用于定義何時、何地、以及如何進行打印。在nanoPrintX中可以定義單個對準標記以及基板特征，例如芯片邊緣和光纖表面。使用QuantumXalign系統(tǒng)的共焦單元或光纖照明單元，可以識別這些特定的基板標記，并將其與在nanoPrintX中定義的數字模型進行匹配。對準雙光子光刻技術和nanoPrintX軟件是QuantumXalign系統(tǒng)的標配。上海雙光子聚合三維微納米加工系統(tǒng)新型雙光子聚合技術的操作原理是什么？

Nanoscribe的PhotonicProfessionalGT2雙光子無掩模光刻系統(tǒng)的設計多功能性配合打印材料的多方面選擇性，可以實現微機械元件的制作，例如用光敏聚合物，納米顆粒復合物，或水凝膠打印的遠程操控可移動微型機器人，并可以選擇添加金屬涂層。此外，微納米器件也可以直接打印在不同的基材上，甚至可以直接打印于微機電系統(tǒng)（MEMS）。PhotonicProfessionalGT2系統(tǒng)可以實現精度上限的3D打印，突破了微納米制造的限制。該打印系統(tǒng)的易用性和靈活性的特點配以特別廣的打印材料選擇使其成為理想的實驗研究儀器和多用戶設施

QuantumXshape是Nanoscribe推出的全新高精度3D打印系統(tǒng)，用于快速原型制作和晶圓級批量生產，以充分挖掘3D微納加工在科研和工業(yè)生產領域的潛力。該系統(tǒng)是基于雙光子聚合技術（2PP）的專業(yè)激光直寫系統(tǒng)，可為亞微米精度的2.5D和3D物體的微納加工提供極高的設計自由度。QuantumXshape可實現在6英寸的晶圓片上進行高精度3D微納加工。這種效率的提升對于晶圓級批量生產尤其重要，這對于科研和工業(yè)生產領域應用有著重大意義?？偠灾?，該系統(tǒng)拓寬了3D微納加工在多個科研領域和工業(yè)行業(yè)應用的更多可能性（如生命科學、材料工程、微流體、微納光學、微機械和微電子機械系統(tǒng)（MEMS）等）。全新QuantumXshape作為Nanoscribe工業(yè)級無掩膜光刻系統(tǒng)QuantumX產品系列的第二臺設備，可實現在25cm2面積內打印任何結構，很大程度推動了生命科學，微流體，材料工程學中復雜應用的快速原型制作。想要了解更多雙光子聚合納米3D打印的信息，請咨詢Nanoscribe中國分公司-納糯三維。

雙光子聚合3D打印技術的發(fā)展也面臨一些挑戰(zhàn)。首先，材料選擇和性能仍然是一個問題。目前可用的光敏樹脂材料種類有限，無法滿足所有需求。其次，打印速度和成本也是制約技術發(fā)展的因素。雖然雙光子聚合3D打印技術比傳統(tǒng)技術更快，但仍然需要進一步提高效率和降低成本。然而，隨著技術的不斷進步和創(chuàng)新，雙光子聚合3D打印技術有望在未來取得更大的突破?？蒲腥藛T正在不斷探索新的材料和打印方法，以提高打印質量和效率。同時，企業(yè)也加大了對該技術的支持和投入，推動其在各個領域的應用。雙光子聚合3D打印技術是一項具有巨大潛力的創(chuàng)新科技。它將為制造業(yè)帶來的變革，推動產品設計和制造的發(fā)展。我們有理由相信，在不久的將來，雙光子聚合3D打印技術將成為制造業(yè)的主流技術，為我們帶來更加美好的未來。Nanoscribe的雙光子聚合技術有助力微流控芯片在3D打印技術上的突破。上海2PP雙光子聚合無掩光刻

Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技（上海）有限公司邀您一起探討Nanoscribe的雙光子聚合微納3D打印技術。上海超高精度雙光子聚合微納光刻

雙光子聚合是物質在發(fā)生雙光子吸收后所引發(fā)的光聚合過程。雙光子吸收是指物質的一個分子同時吸收兩個光子的過程，只能在強激光作用下發(fā)生，是一種強激光下光與物質相互作用的現象，屬于三階非線性效應的一種。雙光子吸收的發(fā)生主要在脈沖激光所產生的特別強激光的焦點處，光路上其他地方的激光強度不足以產生雙光子吸收，而由于所用光波長較長，能量較低，相應的單光子過程不能發(fā)生，因此，雙光子過程具有良好的空間選擇性。雙光子聚合利用了雙光子吸收過程對材料穿透性好、空間選擇性高的特點，在三維微加工、高密度光儲存及生物醫(yī)療領域有著巨大的應用前景，近年來已成為全球高新技術領域的一大研究熱點上海超高精度雙光子聚合微納光刻