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潛水曝氣機
曝光機是集電子光學、電氣、機械、真空、計算機技術(shù)等于一體的復(fù)雜的半導體加工設(shè)備,70年代以后廣泛應(yīng)用于半導體集成電路制造業(yè),是在計算機的控制下,利用聚焦電子束對有機聚合物進行曝光。
曝光機在計算機的控制下,利用聚焦電子束對有機聚合物進行曝光,受電子束輻照后的光刻膠,潛水曝氣機哪家好,其物理化學性質(zhì)發(fā)生變化,在一定的溶劑中形成良溶或非良溶區(qū)域,從而在抗蝕劑上形成精細圖形。
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渦凹曝氣機主要應(yīng)用于造紙、化工、印染、食品、啤酒、制藥、屠宰等行業(yè)工業(yè)污水的凈化處置。
1. 儉省投資
渦凹曝氣機沒有壓力容器、空壓機、循環(huán)泵等設(shè)備,因此設(shè)備投資少,占空中積小,減少土建投資。
2. 運轉(zhuǎn)費用低廉
該系統(tǒng)因沒有壓力容器、空壓機、循環(huán)泵等設(shè)備,從而儉省電耗。渦凹曝氣機(CAF)系統(tǒng)十分容易操作,基本沒有復(fù)雜的設(shè)備,因而人工操作及維修工作量,降低了人工費及維修費。
3. 處置
在油脂和固體懸浮物去除的同時,潛水曝氣機,COD和BOD的負荷也大大降低,通常COD的去除率能夠到達75-85%以上。
4. 操作簡單
本系統(tǒng)十分容易操作,沒有復(fù)雜的設(shè)備;整個系統(tǒng)僅由兩個機械局部組成。潛水曝氣機,潛水曝氣機報價
企業(yè): 諸城市騰翔環(huán)保機械有限公司
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