真空鍍膜技術(shù)的應(yīng)用時(shí)較早的。真空鍍膜技術(shù)在電子方面開始是用來制造電阻和電容元件，之后隨著半導(dǎo)體技術(shù)在電機(jī)學(xué)領(lǐng)域中的應(yīng)用，又使這一技術(shù)成為晶體管制造和集成電路生產(chǎn)的必要工藝手段。

真空鍍膜加工原理有不同可分很多種類，因?yàn)檎婵斟兡ぜ庸すぷ鳝h(huán)境要要求高真空度而擁有統(tǒng)一名稱。所以對(duì)于不同原理的真空鍍膜加工，影響均勻性的因素也不盡相同。

真空鍍膜技術(shù)還廣泛應(yīng)用于航空航天、汽車、生物醫(yī)學(xué)等多個(gè)領(lǐng)域。在航空航天工業(yè)中，化學(xué)氣相沉積工藝，該技術(shù)被用于制造熱控制涂層、輻射屏蔽和推進(jìn)系統(tǒng)等部件；在汽車行業(yè)中，化學(xué)氣相沉積加工，該技術(shù)被用于提高發(fā)動(dòng)機(jī)部件、懸架部件和外飾件的性能和耐久性；在生物醫(yī)學(xué)領(lǐng)域，化學(xué)氣相沉積廠在哪，真空鍍膜技術(shù)被用于制造具有生物相容性、釋放和生物傳感等功能的薄膜涂層。真空鍍膜技術(shù)在電子領(lǐng)域的應(yīng)用也非常重要，包括微電子、光電子和傳感器技術(shù)等。

真空鍍膜有三種形式，即蒸發(fā)鍍膜、濺射鍍膜和離子鍍.蒸發(fā)鍍膜 通過加熱蒸發(fā)某種物質(zhì)使其沉積在固體表面，化學(xué)氣相沉積，稱為蒸發(fā)鍍膜。真空鍍膜是在真空中將鈦、金、石墨、水晶等金屬或非金屬、氣體等材料利用濺射、蒸發(fā)或離子鍍等技術(shù)，在基材上形成薄膜的一種表面處理過程。

真空鍍膜加工均勻性的概念：

1.厚度上的均勻性，也可以理解為粗糙度，真空鍍膜加工均勻性。

2.化學(xué)組分上的均勻性： 就是說在薄膜中，化合物的原子組分會(huì)由于尺度過小而很容易的產(chǎn)生不均勻特性，薄膜，如果鍍膜過程不科學(xué)，鍍的膜并非是想要的膜的化學(xué)成分，這也是真空鍍膜加工的技術(shù)含量所在。

3.晶格有序度的均勻性

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