微弧氧化技術又稱微等離子體氧化或陽極火花沉積，實質上是一種高壓的陽極氧化，是一種新型的金屬表面處理技術。該工藝是在適當的脈沖電參數和電解液條件下，輕金屬微弧氧化優(yōu)勢，使陽極表面產生微區(qū)等離子弧光放電現象，陽極上原有的氧化物瞬間熔化，同時又受電解液冷卻作用， 進而在金屬表面原位生長出陶瓷質氧化膜的過程。

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與普通的陽極氧化膜相比， 微弧氧化膜的空隙小，空隙率低，與基質結合緊密， 且在耐蝕、耐磨性能等方面得到了很大的提高。微弧氧化技術生成的膜層綜合性能優(yōu)良，與基體結合牢固， 且工藝簡單，輕金屬微弧氧化價格，對環(huán)境污染小，輕金屬微弧氧化電源， 目前對其生長規(guī)律、生長機理和影響因素等已經有了較為深入的研究， 在工業(yè)上得到了一定的應用， 是一種具有發(fā)展?jié)摿Φ逆V合金表面處理技術。微弧氧化技術在現代工業(yè)中應用匯越來越廣泛。

微弧氧化處理后的輕金屬基表面陶瓷膜層具有硬度高，耐蝕性強，絕緣性好，膜層與基底金屬結合力強，并具有很好的耐磨和耐熱沖擊等性能。微弧氧化采用低電壓方式，配置特質的電解液，輕金屬微弧氧化，通過瞬時的等離子光化學反應，高溫離子尚未破壞到母材表層的情況下，母材外表形成一層硬質氧化維護膜，從而達到對母材表面處理的效果。微弧氧化電源、微弧氧化技術、微弧氧化生產線

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