在硅酸鹽體系中分別添加三氧化鉬和鉬酸鈉，對AZ91D鎂合金進行微弧氧化處理，對比研究鉬質量濃度相同的三氧化鉬和鉬酸鈉對微弧氧化膜耐蝕性的影響。通過TT260涂層測厚儀、SEM和XRD分別檢測膜層厚度、表面形貌和物相組成。采用點滴和電化學實驗研究膜層的耐蝕性。

結果表明：電解液中加入鉬質量濃度相同的MoO3和Na2MoO4后，膜層點滴耐蝕性均有所降低，但電化學耐蝕性均增加，且二者添加量均為少時膜層耐蝕性更佳。

1溫度對微弧氧化的影響

微弧氧化與陽極氧化不同，所需溫度范圍較寬。一般為10-90度。溫度越高，成膜越快，鋁 鎂合金微弧氧化設備，但粗糙度也增加。且溫度高，會形成水氣。一般建議在20-60度。由于微弧氧化以熱能形式釋放，所以液體溫度上升較快，微弧氧化過程須配備容量較大的熱交換制冷系統(tǒng)以控制槽液溫度。

2.時間對微弧氧化的影響

微弧氧化時間一般控制在10~60min。氧化時間越長，鎂合金微弧氧化表面要求，膜的致密性越好，但其粗糙度也增加。

3.陰極材料

陰極材料可選用不銹鋼，碳鋼，鎳等，可將上述材料懸掛使用或做成陰極槽體。

4.后處理對微弧氧化的影響

微弧氧化過后，工件可不經過任何處理直接使用，也可進行封閉，鎂合金微弧氧化封孔，電泳，拋光等后續(xù)處理。折疊

微弧氧化工藝

微弧氧化工藝技術是直接在有色金屬表面原位生成陶瓷層的新技術。微弧氧化工藝技術工藝簡單，對環(huán)境污染小，具備很大的性，鎂合金微弧氧化，它制備的膜層特點鮮明，膜層與基體金屬屬于冶金結合，結合牢固，在制備涂層方面具有明顯優(yōu)勢，微弧氧化技術已被廣泛應用于Al、Ti 和Mg等金屬行業(yè)，是一種很有前景的表面處理工藝。

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