相比MoO3，鈦合金微弧氧化技術(shù)，加入鉬質(zhì)量濃度相同的Na2MoO4所得膜層耐蝕性更佳，在添加0.42g/L Na2MoO4時(shí)制得膜層其腐蝕電流密度比無(wú)添加劑時(shí)的低約7倍，比基體的低約1個(gè)數(shù)量級(jí)。故加入Na2MoO4的價(jià)比更高。

此外，這2種添加劑的加入，均可在AZ91D鎂合金表面制得淺棕色的膜層，起顯色作用的物質(zhì)是MoO2。

為探究工藝參數(shù)對(duì)鋁合金微弧氧化膜層中蛇紋石含量的影響，采用微弧氧化技術(shù)，分別在雙向恒壓、單向恒壓和單向恒流模式下，在添加蛇紋石微納米顆粒的電解液中進(jìn)行試驗(yàn)，表面微弧氧化技術(shù)，在ZL109鋁合金表面原位生長(zhǎng)陶瓷層。采用SEM、EDS及XRD對(duì)膜層進(jìn)行分析。

結(jié)果表明：在單向恒壓和單向恒流模式下制得的微弧氧化膜層的蛇紋石含量相比雙向恒壓模式分別提高了92%和113%；

微弧氧化膜的性能特點(diǎn)

1、硬度極高，可達(dá)1500-2000HV，微弧氧化技術(shù)，比一般陽(yáng)極氧化或電鍍處理高許多。

2、耐磨性好。

3、耐腐蝕性好，耐中性鹽霧可達(dá)2000h以上。

4、絕緣性能良好。

5、附著力良好將工件加熱至300℃，立即浸入冷水中，微弧氧化技術(shù)服務(wù)，反復(fù)數(shù)次都未發(fā)現(xiàn)氧化膜掉落。（內(nèi)容僅供參考）

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