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沉積材料廣泛:可沉積鋁、鈦、鋯等濕法電鍍無(wú)法沉積的低電位金屬,甚至可以通過(guò)反應(yīng)氣體和合金靶材沉積從合金到陶瓷甚至是金剛石的涂層。
涂層性能:納米級(jí)薄膜具有的物理、化學(xué)和機(jī)械性能,如高硬度、高耐磨性、高耐腐蝕性、良好的導(dǎo)電性和導(dǎo)熱性等。
附著力強(qiáng):真空納米鍍膜技術(shù)能夠在低溫、低損傷的條件下實(shí)現(xiàn)高速沉積,且薄膜與基材之間的結(jié)合力較強(qiáng)。
可控性強(qiáng):通過(guò)調(diào)整鍍膜工藝參數(shù)(如真空度、沉積速率、沉積溫度等),可以控制薄膜的厚度、成分和性能。
應(yīng)用需求:根據(jù)材料的具體應(yīng)用需求(如耐磨性、耐腐蝕性、光學(xué)性能等)來(lái)確定鍍膜的厚度。
工藝限制:不同的鍍膜工藝對(duì)鍍膜厚度的控制范圍和精度有所不同,需要根據(jù)工藝限制來(lái)確定合適的鍍膜厚度。
成本效益:較厚的鍍膜可能需要更多的材料和更長(zhǎng)的加工時(shí)間,從而增加成本。因此,在保證性能的前提下,需要合理控制鍍膜厚度以降低成本。
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