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時(shí)間對微弧氧化封孔膜層增厚的影響
在其他工藝參數(shù)相同的情況下,不同封閉時(shí)間對陶瓷膜膜層增厚的影響。封閉時(shí)間較短時(shí),膜層增厚較少;隨著時(shí)間的延長,膜層逐漸增厚;但是封閉時(shí)間過長,如封閉時(shí)間超過60min后,輕金屬微弧氧化表面處理,膜層增厚并不顯著,而且有下降的趨勢。
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微弧氧化膜層中的蛇紋石含量隨電流的增加而增加,隨頻率的增加而降低,輕金屬微弧氧化,隨電解液中蛇紋石微納米顆粒濃度的增加而增加;試驗(yàn)過程中試樣與電解槽之間的電場產(chǎn)生的電泳效應(yīng),使得在電解液中呈電負(fù)性的蛇紋石微納米顆粒移動(dòng)到試樣表面,在接觸到試樣表面熔融態(tài)的高溫氧化物時(shí),蛇紋石微納米顆粒表面熔化而粘合在試樣表面,經(jīng)電解液冷卻復(fù)合到了微弧氧化膜層中。
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