電鍍和陽(yáng)極氧化有什么區(qū)別？

處理對(duì)象不同：

電鍍方法處理的對(duì)象主要是金屬，輕金屬微弧氧化，也可以是非金屬。常使用的電鍍鍍層金屬為鎳、鉻、錫、銅、銀及金等。也就是經(jīng)常說(shuō)的鍍鎳、鍍鉻、鍍金等。

陽(yáng)極氧化處理則是金屬表面處理的方法。大多數(shù)金屬材料（如不銹鋼、鋅合金、鋁合金、鎂合金、銅合金、鈦合金）都可以在適宜的電解液中進(jìn)行陽(yáng)極氧化處理。

用正交試驗(yàn)法，對(duì)影響7075鋁合金微弧氧化膜層致密性的電參數(shù)進(jìn)行優(yōu)化。以膜層厚度和孔隙率作為指標(biāo)，輕金屬微弧氧化電源，以正向電壓、電流密度、正占空比和脈沖頻率作為因素設(shè)計(jì)，并開展了四因素三水平的正交試驗(yàn)。使用掃描電鏡對(duì)正交試驗(yàn)后微弧氧化陶瓷膜層的表面形貌進(jìn)行了觀察；利用Image J軟件對(duì)陶瓷膜層的膜層厚度及孔隙率進(jìn)行測(cè)量。

結(jié)果表明：影響微弧氧化陶瓷膜層厚度的電參數(shù)順序從大到小依次為：正向電壓〉電流密度〉正占空比〉脈沖頻率；

影響微弧氧化膜層孔隙率的電參數(shù)順序從大到小依次為：正向電壓〉電流密度〉正占空比〉脈沖頻率；

采用綜合平衡法確定的電參數(shù)的優(yōu)化結(jié)果為：正向電壓550V、電流密度8 A/dm^2、正占空比20%、頻率400Hz。

ZL205A微弧氧化膜層耐蝕性能研究

利用硅酸鹽復(fù)合電解液體系，在ZL205A上采用微弧氧化法制備膜層。

所用的工藝參數(shù)為：恒流控制，電流密度3 A/dm^2，頻率500 Hz，終止電壓450 V。利用掃描電鏡對(duì)該膜層的形貌及結(jié)構(gòu)進(jìn)行分析；對(duì)膜層的化學(xué)成分進(jìn)行分析；采用極化曲線評(píng)價(jià)膜層的耐蝕性。

結(jié)果表明：所制備的微弧氧化膜層能提高ZL205A的耐蝕性。

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