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什么是微弧氧化技術(shù)?
微弧氧化技術(shù)是近幾年國內(nèi)外發(fā)展較快的一項高新技術(shù)。
該技術(shù)的基本原理及特點:微弧氧化或微等離子體表面陶瓷化技術(shù),是指在普通陽極氧化的基礎(chǔ)上,利用弧光放電增強并會在陽極上發(fā)生的反應。
使工件表面的金屬與電解質(zhì)溶液相互作用,在工件表面形成微弧放電,在高溫、電場等因素的作用下,微弧氧化生產(chǎn)線,金屬表面形成陶瓷膜。(內(nèi)容僅供參考)
1溫度對微弧氧化的影響
微弧氧化與陽極氧化不同,所需溫度范圍較寬。一般為10-90度。溫度越高,成膜越快,但粗糙度也增加。且溫度高,會形成水氣。一般建議在20-60度。由于微弧氧化以熱能形式釋放,所以液體溫度上升較快,微弧氧化過程須配備容量較大的熱交換制冷系統(tǒng)以控制槽液溫度。
2.時間對微弧氧化的影響
微弧氧化時間一般控制在10~60min。氧化時間越長,膜的致密性越好,但其粗糙度也增加。
3.陰極材料
陰極材料可選用不銹鋼,碳鋼,鎳等,可將上述材料懸掛使用或做成陰極槽體。
4.后處理對微弧氧化的影響
微弧氧化過后,工件可不經(jīng)過任何處理直接使用,也可進行封閉,電泳,鈦微弧氧化生產(chǎn)線,拋光等后續(xù)處理。折疊
微弧氧化技術(shù)工藝特點
微弧氧化從普通陽極氧化發(fā)展而來,其裝置包括專門用的高壓電源、氧化槽、冷卻系統(tǒng)和攪拌系統(tǒng)。氧化液大多采用堿性溶液,對環(huán)境污染小。溶液溫度以室溫為宜,溫度變化范圍較寬。溶液溫度對微弧氧化的影響比陽極氧化小得多,因為微弧區(qū)燒結(jié)溫度達幾千度,微弧氧化生產(chǎn)線加工廠,遠高于槽溫,而陽極氧化要求溶液溫度較低,鎂合金微弧氧化生產(chǎn)線,特別是硬質(zhì)陽極氧化對溶液溫度限制更為嚴格。微弧氧化工件的形狀可以較復雜,部分內(nèi)表面也可處理。此外,微弧氧化工藝流程比陽極氧化簡單得多,也是此技術(shù)工藝特點之一。
企業(yè): 日照微弧技術(shù)有限公司
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