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真空鍍膜過程其工藝之多非常復(fù)雜,真空鍍膜加工原理有不同可分很多種類,對于不同原理的真空鍍膜加工,真空微米鍍膜,影響均勻性的因素也不盡相同。
真空鍍膜有三種形式,硅膠真空微米鍍膜,即蒸發(fā)鍍膜、濺射鍍膜和離子鍍。真空鍍膜加工表面的清潔處理非常重要,直接影響到電鍍的產(chǎn)品品質(zhì)。真空鍍膜技術(shù)一般分為兩大類,即物理氣相堆積技術(shù)和化學(xué)氣相堆積技術(shù)。
PVD真空鍍膜加工過程在真空環(huán)境中進行,不產(chǎn)生有害排放物,對環(huán)境友好。
清潔與維護:
PVD鍍膜表面不易沾污,清潔起來非常方便,節(jié)省了清潔和維護的時間和成本。
廣泛的適用性:
鍍膜可以應(yīng)用于多種材料表面,包括金屬、塑料等,并可以與多種基材和表面處理技術(shù)結(jié)合使用。
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