轉(zhuǎn)碟曝氣機(jī)技術(shù)參數(shù)

轉(zhuǎn)碟曝氣機(jī)已在國內(nèi)多個(gè)城市生活污水處理、造紙污水處理、制藥廢水處理、皮革污水處理等各類污水處理工程中廣泛應(yīng)用。

轉(zhuǎn)碟曝氣機(jī)技術(shù)參數(shù)：

設(shè)備型號(hào)：TXZB-22/1500

曝氣轉(zhuǎn)盤直徑：1500mm

曝氣轉(zhuǎn)盤轉(zhuǎn)速：52rpm

設(shè)計(jì)配用功率：22 kw

曝氣轉(zhuǎn)盤浸沒深度：510mm

曝氣轉(zhuǎn)盤充氧效率（動(dòng)力效率）：3.35 O2/kw?h(以消耗功率計(jì))

曝氣轉(zhuǎn)盤工作水深：≤5.2ds/m

曝氣轉(zhuǎn)盤水平跨度：≤9m（根據(jù)用戶要求）

曝氣轉(zhuǎn)碟安裝密度： ＜5ds/m

設(shè)計(jì)耗用功率密度：10-12.5w/m3

曝氣轉(zhuǎn)碟充氧能力：44.2kg O2/h潛水曝氣機(jī)，潛水曝氣機(jī)質(zhì)量

渦凹曝氣機(jī)簡介

渦凹曝氣機(jī)由潛水電泵和射流泵組成。水體中充溢氧氣，潛水曝氣機(jī)報(bào)價(jià)，水體中充溢氧氣。強(qiáng)單向流，這會(huì)招致有效的對(duì)流循環(huán)，并且電機(jī)負(fù)載變化與水位是很小的，裝置很簡單。來看看這種潛水曝氣機(jī)在這些條件下能夠正常運(yùn)轉(zhuǎn)。介質(zhì)的1高溫度不超越40 C;這2種介質(zhì)的pH值為5 ~ 9;介質(zhì)的密度不超越1150公斤/立方米。

渦凹曝氣機(jī)是另一品種型的潛水，潛水曝氣機(jī)，在我們解釋這種潛水曝氣機(jī)的工作原理，及其產(chǎn)品特性。渦凹曝氣機(jī)直接耦合構(gòu)造的污水處置設(shè)備。水曝氣機(jī)葉輪旋轉(zhuǎn)產(chǎn)生向心力，向心力輪葉輪構(gòu)成負(fù)壓區(qū)，空氣經(jīng)過進(jìn)氣管被吸入，吸入的空氣和水停止混合攪拌盤，然后好的平均混合物自動(dòng)從出口排出。潛水曝氣機(jī)，潛水曝氣機(jī)質(zhì)量

渦凹曝氣機(jī)直接銜接式構(gòu)造，葉輪在水中旋轉(zhuǎn)產(chǎn)生向心力，向心力輪葉輪構(gòu)成負(fù)壓區(qū)，空氣經(jīng)過進(jìn)氣管被吸入，吸入的空氣和水停止混合攪拌盤，然后好平均混合自動(dòng)從出口排出。

曝光機(jī)是集電子光學(xué)、電氣、機(jī)械、真空、計(jì)算機(jī)技術(shù)等于一體的復(fù)雜的半導(dǎo)體加工設(shè)備，潛水曝氣機(jī)質(zhì)量，70年代以后廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體集成電路制造業(yè)，潛水曝氣機(jī)價(jià)格，是在計(jì)算機(jī)的控制下，利用聚焦電子束對(duì)有機(jī)聚合物進(jìn)行曝光。

曝光機(jī)在計(jì)算機(jī)的控制下，利用聚焦電子束對(duì)有機(jī)聚合物進(jìn)行曝光，受電子束輻照后的光刻膠，其物理化學(xué)性質(zhì)發(fā)生變化，在一定的溶劑中形成良溶或非良溶區(qū)域，從而在抗蝕劑上形成精細(xì)圖形。

曝光機(jī)主要用于半導(dǎo)體制造，光電電子，平板，射頻微波，衍射光學(xué)，微機(jī)電系統(tǒng)，凹凸或覆晶設(shè)備和其他要求精細(xì)印制和精度對(duì)準(zhǔn)的技術(shù)要求。潛水曝氣機(jī)，潛水曝氣機(jī)質(zhì)量

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