微弧氧化的步驟

一、陽(yáng)極氧化階段

將樣品置于一定的電解液中，通電后，樣品外表和陰極外表呈現(xiàn)無(wú)數(shù)細(xì)小的平均的白色氣泡，而且隨電壓升高，氣泡逐步變大變密，生成速率也不時(shí)加快。在到達(dá)擊穿電壓之前，這種現(xiàn)象不斷存在，這一階段就是陽(yáng)極氧化階段。

二、火花放電階段

當(dāng)施加到樣品的電壓到達(dá)擊穿電壓時(shí)，樣品外表開(kāi)端呈現(xiàn)無(wú)數(shù)細(xì)小、亮度較低的火花點(diǎn)。這些火花點(diǎn)密度不高，無(wú)爆鳴聲。在該階段，樣品外表開(kāi)端構(gòu)成陶瓷層，但陶瓷層的生長(zhǎng)速率很小，硬度和致密度較低，所以應(yīng)盡量減少這一階段的時(shí)間。

微弧氧化膜層生長(zhǎng)時(shí)，首先在基體表面發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，生成一層陽(yáng)極氧化膜。當(dāng)增大反應(yīng)電壓時(shí)，膜層厚度會(huì)進(jìn)一步增加，厚度會(huì)隨之增加。但是當(dāng)反應(yīng)電壓增加到一定程度時(shí)，膜層會(huì)由于不能承受該工作電壓發(fā)生放電再擊穿，產(chǎn)生等離子放電。反應(yīng)的高溫將使膜層發(fā)生熔融，基體元素由于處在富氧環(huán)境中，將形成氧化物。同時(shí)由于是在電解液中，熔融物將瞬間冷凝，在基體表面生成一層陶瓷。陶瓷膜的生成，微弧氧化生產(chǎn)線方案，將導(dǎo)致工作電壓進(jìn)一步升高，膜層再次被擊穿，膜層厚度進(jìn)一步增加。周而復(fù)始，膜層得以生長(zhǎng)。

日照微弧技術(shù)有限公司秉承“真誠(chéng)服務(wù)、信譽(yù)為先”的經(jīng)營(yíng)理念，非常注重產(chǎn)品質(zhì)量，微弧氧化生產(chǎn)線，贏得了廣大客戶的一致好評(píng)，竭誠(chéng)歡迎新老客戶前來(lái)洽談、惠顧！

微弧氧化膜的性能特點(diǎn)

1、硬度極高，可達(dá)1500-2000HV，比一般陽(yáng)極氧化或電鍍處理高許多。

2、耐磨性好。

3、耐腐蝕性好，鎂微弧氧化生產(chǎn)線，耐中性鹽霧可達(dá)2000h以上。

4、絕緣性能良好。

5、附著力良好將工件加熱至300℃，立即浸入冷水中，反復(fù)數(shù)次都未發(fā)現(xiàn)氧化膜掉落。（內(nèi)容僅供參考）

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