真空鍍膜技術(shù)在光學(xué)儀器中的應(yīng)用

人們熟悉的光學(xué)儀器有望遠(yuǎn)鏡、顯微鏡、照相機(jī)、測(cè)距儀、以及日常生活用品中的鏡子、眼鏡、放大鏡等。它們都離不開鍍膜技術(shù)，鍍制的薄膜有反射膜、增透膜和吸收膜等幾種。

一般光學(xué)儀器中的光學(xué)系統(tǒng)都由多個(gè)透鏡組成，光線要經(jīng)玻璃界面，會(huì)有相當(dāng)多的光線被反射掉，透過(guò)的光線很少，影響光學(xué)儀器的光學(xué)效果。為了減少反射損耗，增大光線的透過(guò)率，往往在玻璃表面沉積增透膜來(lái)提高光的透過(guò)率。反射膜與增透膜相反，反射膜要求把入射光大部分或幾乎全部反射回去。例如：光學(xué)儀器、激光器、波導(dǎo)管、汽車和燈具的反射鏡都需要鍍反射膜。反射膜有金屬膜和介質(zhì)膜兩種。鍍制金屬高反射膜常用的材料有鋁、銀、金、銅等。為了提高金屬膜表面的抗擦損能力，往往在表面鍍一層保護(hù)膜，如SiO/SiO2/Al2O3。

在激光器和多光束干涉儀反射鏡上，一般沉積低吸收、高反射的全介質(zhì)反射膜。其結(jié)構(gòu)是在基片上交替沉積光學(xué)厚度為λ/4的高、低折射率材料的膜層。

真空鍍膜機(jī)蒸發(fā)系統(tǒng)介紹

真空鍍膜機(jī)蒸發(fā)系統(tǒng)主要指成膜裝置部分，鍍膜機(jī)器的成膜裝置很多，有電阻加熱、電子槍蒸發(fā)、磁控濺射、射頻濺射、離子鍍等多種方式，鄙人就電阻加熱和電子槍蒸發(fā)兩種方式作介紹，因?yàn)榇藘煞N方式我應(yīng)用的比較多。

電阻蒸發(fā)根據(jù)其結(jié)構(gòu)和工作原理是目前為止應(yīng)用多，廣泛的蒸發(fā)方式，也是應(yīng)用時(shí)間長(zhǎng)的蒸發(fā)方式。它的工作方式是，將鎢片做成船狀，然后安裝在兩個(gè)電極中間，在鎢舟中央加上藥材，再緩緩給電極通電，電流通過(guò)鎢舟，鎢舟通電發(fā)熱，這些低電壓，大電流使高熔點(diǎn)的鎢舟產(chǎn)生熱量，再熱傳導(dǎo)給鍍膜材料，當(dāng)鎢舟的熱量高于鍍膜材料熔點(diǎn)的時(shí)候，材料就升華或者蒸發(fā)了，此方法由于操作方便，結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，成本低廉，故被很多設(shè)備應(yīng)用，但是其蒸發(fā)出來(lái)的薄膜由于致密性不佳，加上很多材料無(wú)法采用這種方式蒸鍍，所以其有一定局限性。鎢舟蒸發(fā)鍍膜材料的時(shí)候，材料的熔點(diǎn)必須小于鎢舟的熔點(diǎn)，否則就沒(méi)有辦法進(jìn)行。

引起鍍膜玻璃膜層不均勻原因有哪些

由于殘余氣體的存在，不但影響膜的純度及質(zhì)量，還會(huì)產(chǎn)生。所以在生產(chǎn)中要選用高純度的氣為工作氣體，嚴(yán)格控制真空室的漏氣速率，以減小殘余氣體對(duì)原片及膜層的污染。將殘余氣體的壓力控制在10Pa以下，要經(jīng)常清理加熱室、玻璃過(guò)渡室、濺射室的環(huán)境，減少擴(kuò)散泵返油對(duì)玻璃的污染。同時(shí)可適當(dāng)提高陰極的濺射功率，以增加粒子動(dòng)能及擴(kuò)散能力，這將有利于清除被鍍膜玻璃表面的殘留物質(zhì)，減少鍍膜玻璃的。鍍膜玻璃膜的膜層均勻度一般地講，同一基片上膜層厚薄不同，就稱之為膜層不均勻。引起鍍膜玻璃膜層不均勻的原因是多方面的。磁控濺射靶的水平磁場(chǎng)強(qiáng)度（B）對(duì)膜層均勻度的影響磁控濺射的關(guān)鍵參數(shù)之一是與電場(chǎng)垂直的水平磁場(chǎng)強(qiáng)度B，因?yàn)樗酱艌?chǎng)強(qiáng)度B要求在陰極靶的表面是一個(gè)均勻的數(shù)值。而實(shí)際生產(chǎn)過(guò)程中值是隨著使用方法及時(shí)間的推移，產(chǎn)生一定的變化，而出現(xiàn)不均勻現(xiàn)象。我們從濺射過(guò)的陰極靶材的刻蝕區(qū)的變化情況就可以驗(yàn)證。