一六 熒光測厚儀 十年以上研發(fā)團(tuán)隊(duì) 集研發(fā)生產(chǎn)銷售一體

元素分析范圍:氯(CI)- 鈾(U)   厚度分析范圍:各種元素及有機(jī)物

一次可同時(shí)分析:23層鍍層,24種元素 厚度檢出限:0.005um

鍍層厚度分析儀根據(jù)測量原理一般有以下五種類型:

1.磁性測厚法

適用導(dǎo)磁材料上的非導(dǎo)磁層厚度測量。導(dǎo)磁材料一般為：鋼、鐵、銀、鎳。此種方法測量精度高。

2.渦流測厚法

適用導(dǎo)電金屬上的非導(dǎo)電層厚度測量。此種方法較磁性測厚法精度低。

3.超聲波測厚法

目前國內(nèi)還沒有用此種方法測量涂鍍層厚度的，國外個(gè)別廠家有這樣的儀器，適用多層涂鍍層厚度的測量或則是以上兩種方法都無法測量的場合。但一般價(jià)格昂貴，測量精度也不高。

4.電解測厚法

此方法有別于以上三種，不屬于無損檢測，需要破壞涂鍍層。一般精度也不高。測量起來較其他幾種麻煩。

5.測厚法

此種儀器價(jià)格昂貴，適用于一些特殊場合。

江蘇一六儀器有限公司是一家專注于光譜分析儀器研發(fā)、生產(chǎn)、銷售的高新技術(shù)企業(yè)。公司位于上海和蘇州中間的昆山市城北高新區(qū)。我們專業(yè)的研發(fā)團(tuán)隊(duì)具備十年以上的從業(yè)經(jīng)驗(yàn)，經(jīng)與海內(nèi)外多名專家通力合作，研究開發(fā)出一系列能量色散X熒光光譜儀

一六儀器  X熒光光譜測厚儀

鍍層分析X射線熒光光譜特點(diǎn)

     1.鍍層分析快速、無損，對樣品無需任何處理。一般測試一個(gè)點(diǎn)只需要數(shù)10S-1分鐘，分析精度高。

     2.可測試超薄的鍍層。

     3.可測試多鍍層，分析精度遠(yuǎn)遠(yuǎn)高于其他測量方法。

     4.可分析合金鍍層厚度。如果合金鍍層成分穩(wěn)定，選擇合適的對比分析樣品，就可以準(zhǔn)確的分析出合金鍍層的厚度。

     5.對于樣品可進(jìn)行連續(xù)多點(diǎn)測量，適合分析鍍層的厚度分布情況，并可以對樣品的復(fù)雜面進(jìn)行測量。

     6.對分析的多鍍層每層之間的材料，要求有明顯的區(qū)別

     7.不可以測試超厚樣品，普通金屬鍍層總厚度一般不超過40微米。

     8.可以對樣品進(jìn)行測試

     9.屬于對比分析儀器，測試不同的鍍層樣品需要不同發(fā)鍍層標(biāo)樣

江蘇一六儀器   X熒光光譜測厚儀 特點(diǎn)

快速：1分鐘就可以測定樣品鍍層的厚度，并達(dá)到測量精度要求。

方便：X熒光光譜儀部分機(jī)型采用進(jìn)口國際上先進(jìn)的電制冷半導(dǎo)體探測器，能量分辨率更優(yōu)于135eV，測試精度更高。并且不用液氮制冷，不用定期補(bǔ)充液氮，操作使用更加方便，并且運(yùn)行成本比同類的其他產(chǎn)品更低。

無損：測試前后，樣品無任何形式的變化。

直觀：實(shí)時(shí)譜圖，可直觀顯示元素含量。

測試范圍廣：X熒光光譜儀，是一種物理分析方法，其分析與樣品的化學(xué)結(jié)合狀態(tài)無關(guān)。對在化學(xué)性質(zhì)上屬同一族的元素也能進(jìn)行分析,抽真空可以測試從Na到U。

可靠性高：由于測試過程無人為干擾因素，儀器自身分析精度、重復(fù)性與穩(wěn)定性很高。所以，其測量的可靠性更高。

滿足不同需求：測試軟件為WINDOWS操作系統(tǒng)軟件，操作方便、功能強(qiáng)大，軟件可監(jiān)控儀器狀態(tài)，設(shè)定儀器參數(shù)，并就有多種先進(jìn)的分析方法，工作曲線制作方法靈活多樣，方便滿足不同客戶不同樣品的測試需要。

性價(jià)比高：相比化學(xué)分析類儀器，X熒光光譜儀在總體使用成本上有優(yōu)勢的，可以讓更多的企業(yè)和廠家接受。

簡易：對人員技術(shù)要求較低，操作簡單方便,并且維護(hù)簡單方便。

     X射線熒光光譜測厚儀   X射線的產(chǎn)生  

X射線波長略大于0.5納米的被稱作軟X射線。波長短于0.1納米的叫做硬X射線。

產(chǎn)生X射線的簡單方法是用加速后的電子撞擊金屬靶。如果使用金屬箔貼在特殊基體表面作標(biāo)準(zhǔn)片，就必須注意確保接觸清潔，無皺折紐結(jié)。撞擊過程中，電子突然減速，其損失的動能(其中的1%)會以光子形式放出，形成X光光譜的連續(xù)部分，稱之為制動輻射。通過加大加速電壓，電子攜帶的能量增大，則有可能將金屬原子的內(nèi)層電子撞出。于是內(nèi)層形成空穴，外層電子躍遷回內(nèi)層填補(bǔ)空穴，同時(shí)放出波長在0.1納米左右的光子。由于外層電子躍遷放出的能量是量子化的，所以放出的光子的波長也集中在某些部分，形成了X光譜中的特征線，此稱為特性輻射。