真空鍍膜則是相對(duì)于上述的濕式鍍膜方法而發(fā)展起來(lái)的一種新型鍍膜技術(shù)，通常稱(chēng)為干式鍍膜技術(shù)。

真空鍍膜技術(shù)一般分為兩大類(lèi)，即物理氣相沉積（PVD）技術(shù)和化學(xué)氣相沉積（CVD）技術(shù)。

物理氣相沉積技術(shù)是指在真空條件下，利用各種物理方法，將鍍料氣化成原子、分子或使其離化為離子，直接沉積到基體表面上的方法。制備硬質(zhì)反應(yīng)膜大多以物理氣相沉積方法制得，它利用某種物理過(guò)程，如物質(zhì)的熱蒸發(fā)，或受到離子轟擊時(shí)物質(zhì)表面原子的濺射等現(xiàn)象，實(shí)現(xiàn)物質(zhì)原子從源物質(zhì)到薄膜的可控轉(zhuǎn)移過(guò)程。物理氣相沉積技術(shù)具有膜/基結(jié)合力好、薄膜均勻致密、薄膜厚度可控性好、應(yīng)用的靶材廣泛、濺射范圍寬、可沉積厚膜、可制取成分穩(wěn)定的合金膜和重復(fù)性好等優(yōu)點(diǎn)。同時(shí)，物理氣相沉積技術(shù)由于其工藝處理溫度可控制在500℃以下，因此可作為終的處理工藝用于高速鋼和硬質(zhì)合金類(lèi)的薄膜刀具上。由于采用物理氣相沉積工藝可大幅度提高刀具的切削性能，人們?cè)诟?jìng)相開(kāi)發(fā)、高可靠性設(shè)備的同時(shí)，也對(duì)其應(yīng)用領(lǐng)域的擴(kuò)展，尤其是在高速鋼、硬質(zhì)合金和陶瓷類(lèi)刀具中的應(yīng)用進(jìn)行了更加深入的研究。

化學(xué)氣相沉積技術(shù)是把含有構(gòu)成薄膜元素的單質(zhì)氣體或化合物供給基體，借助氣相作用或基體表面上的化學(xué)反應(yīng)，在基體上制出金屬或化合物薄膜的方法，主要包括常壓化學(xué)氣相沉積、低壓化學(xué)氣相沉積和兼有CVD和PVD兩者特點(diǎn)的等離子化學(xué)氣相沉積等。

常用的光學(xué)鍍膜有哪些？

雖然薄膜的光學(xué)現(xiàn)象早在17世紀(jì)就為人們所注意，但是把光學(xué)薄膜作為一個(gè)課題進(jìn)行專(zhuān)門(mén)研究卻開(kāi)始于20世紀(jì)30年代以后，這主要因?yàn)檎婵占夹g(shù)的發(fā)展給各種光學(xué)薄膜的制備提供了先決條件。發(fā)展到今日，光學(xué)薄膜已得到很大發(fā)展，光學(xué)薄膜的生產(chǎn)已逐步走向系列化、程序化和專(zhuān)業(yè)化，但是，在光學(xué)薄膜的研究中還有不少問(wèn)題有待進(jìn)一步解決，光學(xué)薄膜現(xiàn)有的水平在不少工作中還不能滿(mǎn)足要求，需要提高。在理論上，不但薄膜的生長(zhǎng)機(jī)理需要搞清光學(xué)薄膜，而且薄膜的光學(xué)理論，特別是應(yīng)用于極短波段的光學(xué)理論也有待進(jìn)一步完善和改進(jìn)。在工藝上，人們還缺乏有效的手段實(shí)現(xiàn)對(duì)薄膜淀積參量的精準(zhǔn)控制，這樣，薄膜的生長(zhǎng)就具有一定程度的隨機(jī)性，薄膜的光學(xué)常數(shù)、薄膜的厚度以及薄膜的性能也就具有一定程度的不穩(wěn)定性和盲目性，這一切都限制了光學(xué)薄膜質(zhì)量的提高。所以，光學(xué)薄膜發(fā)展至今也可以說(shuō)是一個(gè)飛躍性的進(jìn)步了，今天首先賡旭光電小編和大家一起來(lái)認(rèn)識(shí)一下生活當(dāng)中常見(jiàn)的幾種光學(xué)薄膜。

一，減反射膜：又稱(chēng)增透膜，它的主要功能是減少或消除透鏡、棱鏡、平面鏡等光學(xué)表面的反射光，從而增加這些元件的透光量，減少或消除系統(tǒng)的雜散光。

簡(jiǎn)單的增透膜是單層膜，它是鍍?cè)诠鈱W(xué)零件光學(xué)表面上的一層折射率較低的薄膜。當(dāng)薄膜的折射率低于基體材料的折射率時(shí),兩個(gè)界面的反射系數(shù)r1和r2具有相同的

光學(xué)薄膜：位相變化。如果膜層的光學(xué)厚度是某一波長(zhǎng)的四分之一，相鄰兩束光的光程差恰好為π,即振動(dòng)方向相反，疊加的結(jié)果使光學(xué)表面對(duì)該波長(zhǎng)的反射光減少。適當(dāng)選擇膜層的折射率，使得r1和r2相等，這時(shí)光學(xué)表面的反射光可以完全消除。

一般情況下，采用單層增透膜很難達(dá)到理想的增透效果,為了在單波長(zhǎng)實(shí)現(xiàn)零反射,或在較寬的光譜區(qū)達(dá)到好的增透效果，往往采用雙層、三層甚至更多層數(shù)的減反射膜。圖1的a、b、c分別繪出Kg玻璃表面的單層、雙層和三層增透膜的剩余反射曲線(xiàn)。

AF真空鍍膜機(jī)鍍膜產(chǎn)品特性

AF真空鍍膜機(jī)大家可能平時(shí)接觸的很少，但是這款型號(hào)設(shè)備使用范圍卻很廣泛，比如：手機(jī)，平板電腦，顯示器，數(shù)碼產(chǎn)品，電器，衛(wèi)浴和金屬件等鍍膜層都有用到這款設(shè)備，下面至成真空鍍膜小編為大家詳細(xì)介紹一下這款設(shè)備的鍍膜產(chǎn)品特性。

1）防污性：防止指紋及油污不容易粘附、輕易擦除；

2）防刮傷：表面滑順，手感舒服，不容易刮花；

3）膜層?。簝?yōu)異光學(xué)性能、不改變?cè)械募y理；

4）耐磨性：具有真度耐磨性能

AF真空鍍膜機(jī)鍍膜產(chǎn)品應(yīng)用領(lǐng)域：手機(jī)、平板、電視、LED等玻璃AR---anti-reflection，中文為抗反射增透，通過(guò)提高玻璃（屏幕）透光率，降低玻璃（屏幕）反射率達(dá)到增透目的?？蛇x擇材料比較多，一般用高低折射率材料交叉堆疊鍍上去，可采用真空蒸發(fā)鍍也可采用磁控濺射鍍。