微弧氧化技術(shù)

       采用微弧氧化技術(shù)對(duì)鋁及其合金材料進(jìn)行表面強(qiáng)化處理，具有工藝過(guò)程簡(jiǎn)單，占地面積小，處理能力強(qiáng)，生產(chǎn)，適用于大工業(yè)生產(chǎn)等優(yōu)點(diǎn)。微弧氧化膜的基本特性是與待處理材料及其表面狀態(tài)有關(guān)的，也與槽液類型、電解質(zhì)溶液成、外加電壓、電流密度、槽液溫度和攪拌等因素有關(guān)。微弧氧化電解液不含有毒物質(zhì)和zhong金屬元素，電解液抗污染能力強(qiáng)和再生重復(fù)使用率高，因而對(duì)環(huán)境污染小，滿足清潔生產(chǎn)的需要，也符合我國(guó)可持續(xù)發(fā)展戰(zhàn)略的需要。微弧氧化電源、微弧氧化生產(chǎn)線、微弧氧化生產(chǎn)線

微弧氧化技術(shù)的應(yīng)用  

       微弧氧化膜由于具有抗磨損、耐腐蝕、高介電和隔熱等特性，應(yīng)用在許多領(lǐng)域。膜層硬度高（維氏硬度可由幾百至三千左右）膜層與基體為冶金結(jié)合、厚度在幾微米至幾百微米之間。如，航空、航天、汽車、船舶、機(jī)械、石油、化工、、電子等行業(yè)。盡管微弧氧化技術(shù)已經(jīng)在這些方面有些應(yīng)用，并且呈現(xiàn)新的應(yīng)用前景，但是推廣應(yīng)用的力度還不夠，這里包括技術(shù)和經(jīng)濟(jì)等多方面原因，有待于我們進(jìn)一步深入研究。微弧氧化技術(shù)、微弧氧化電源、微弧氧化生產(chǎn)線

       微弧氧化電流密度的選定還必須與其他工藝條件和性能要求相結(jié)合。微弧氧化、微弧氧化技術(shù)、微弧氧化電源、微弧氧化生產(chǎn)線、微弧氧化廠家、微弧氧化工藝。這些工藝條件包括電解液組成和溫度、基材成分、電源模式等。微弧氧化突破傳統(tǒng)陽(yáng)極氧化的限制，利用電極間施加很高的電壓使浸在電解液中的電極表面發(fā)生微弧放電現(xiàn)象，電壓的高低是影響微弧氧化的主要因素之一。實(shí)驗(yàn)表明，不同的溶液有不同的電壓工作范圍，如果電壓過(guò)低，陶瓷層生長(zhǎng)速度較小，陶瓷層較薄，顏色較淺，硬度也較低;工作電壓過(guò)高，工件易出現(xiàn)燒蝕現(xiàn)象，生成的陶瓷層致密性較差，厚度不鈞勻。