專利壁壘應對措施

??加強自主知識產(chǎn)權的研發(fā)

??突破國外“專利封鎖”的根本途徑在于加速原創(chuàng)性自主知識產(chǎn)權的研發(fā)和創(chuàng)新，企業(yè)可通過將原創(chuàng)性自主知識產(chǎn)權與當?shù)厥袌鱿嘟Y合，對自主知識產(chǎn)權實施本土化改進，使其更適合當?shù)叵M者的需求。同時，可以確定以市場為導向的原發(fā)技術創(chuàng)新，積極實施原創(chuàng)性自主知識產(chǎn)權的產(chǎn)業(yè)化。

??構筑專利戰(zhàn)略的保護網(wǎng)

??企業(yè)在應對跨國公司的專利競爭時，應該配合企業(yè)的整體發(fā)展戰(zhàn)略，通過構筑專利戰(zhàn)略保護網(wǎng)，有針對性的運用專利戰(zhàn)略防御來自跨國公司的知識產(chǎn)權挑戰(zhàn)，甚至可以利用專利戰(zhàn)略主動進攻。

??科學應對相關的專利侵權訴訟

??企業(yè)在遭遇專利侵權指控時，首先應當以積極的姿態(tài)應對這些訴訟，這是一個企業(yè)成熟的表現(xiàn)。其次，企業(yè)要科學對待專利訴訟問題，在根本不存在侵權時，不僅要堅決反擊對方的無理要求，還要通過媒體揭穿對方利用專利訴訟從事不正當競爭的用心，為別的企業(yè)做出警示。反之，則應試圖能否按照法定程序，及時提起該專利技術的無效宣告，亦或者在了解對方訴訟目的和需求的前提下，提出解決方案尋求和解。

??建立自有的專利標準

??通過將專利與標準化捆綁，跨國企業(yè)謀取了豐厚的利潤，因此我國企業(yè)應該適應這種專利戰(zhàn)略的發(fā)展，重視自有專利標準的建立工作。同時，企業(yè)間也應該能夠結成技術戰(zhàn)略聯(lián)盟，彼此取長補短，加快標準的形成和應用，通過共享市場，最終達成雙贏的局面。

??加強知識產(chǎn)權管理

??企業(yè)應加強的專利管理工作，充分地、全方i位地利用專利戰(zhàn)略，最i大限度地在市場上謀求自己的最i大利益。企業(yè)應該建立健全專利管理體制，設計適合的專利管理制度。首先，我國企業(yè)要站在企業(yè)和產(chǎn)業(yè)發(fā)展的戰(zhàn)略高度上，充分認識和理解知識產(chǎn)權保護的重要性和必要性，增強專利保護意識。其次，配備專職人員，專職人員必須經(jīng)過嚴格的培訓。再次，企業(yè)應建立專門的有利于專利戰(zhàn)略充分發(fā)揮作用的專利管理機構，并達到相應的要求。另外，企業(yè)還需要建立專利管理運作機制，使專利管理機構能夠正常高i效率的運作。

專利維權

　　未經(jīng)專利權人許可，實施其專利，即是侵犯其專利權，專利權人可以通過協(xié)商、請求管理專利工作的部門處理、向人民法i院起訴三種方式維權。

??管理專利工作的部門處理時，認定侵權行為成立的，可以責令侵權人 立即停止侵權行為，當事人不服的，可以自收到處理通知之日起十五日內(nèi)依照《中華人民共 和國行政訴訟法》向人民法i院起訴;

??侵權人期滿不起訴又不停止侵權行為的，管理專利工作的部門可以申請人民法i院強制執(zhí)行。進行處理的管理專利工作的部門應當事人的請求，可以就侵犯專利權的賠償數(shù)額進行調(diào)解;調(diào)解不成的，當事人可以依照《中華人民共和國民事訴訟法》向人民法i院起訴。

專利說明書摘要

　　專利說明書摘要是專利說明書內(nèi)容的概述，也是一種專利申請文書，它適用于發(fā)明和實用新型專利的申請。專利說明書是國家專利局出版的《專利公報告》上發(fā)表的重要內(nèi)容。??摘要的概述

??專利說明書摘要中首先要重復發(fā)明或實用新型名稱，然后指出它所屬的技術領域、需要解決的技術問題，發(fā)明或實用新型的主要技術特征和用途。

??摘要的功能與作用

??專利說明書摘要是一種技術情報，不具有法律效力，不能作為修改專利說明書或權利要求書的根據(jù)，也不能用于解釋專利權的保護范圍。專利說明書摘要主要作用是為專利情報的檢索提供方便途徑，使科技人員看過后能確定是否需要進一步查閱專利文獻的全文。

??摘要的文本結構

??專利說明書摘要主要內(nèi)容有以下幾項：

??發(fā)明或實用新型的名稱;

??發(fā)明或實用新型所屬技術領域;

??發(fā)明或實用新型需要解決的技術問題;

??發(fā)明或實用新型的主要技術特征;

??發(fā)明或實用新型的用途;

??說明發(fā)明或實用新型的化學式或附圖。

??摘要的注意事項

??擇寫專利說明書摘要要注意以下幾點：

??(1)文字表達要嚴密，語言要簡潔、準確、規(guī)范，使人一目了然;

??(2)說明書摘要中可以使用化學式，也可用附圖。但附圖需另外用和說明書摘要用紙同樣大小的白紙繪制。

??(3)說明書摘要中的文字不宜過長，篇幅在300字(包括標點符號)以內(nèi)為宜。

背景技術

　　所謂“背景技術”，指發(fā)明的背景，有時也稱為相關的技術。背景技術是相對于本發(fā)明來說的，是申請文件撰寫人認為相對于本發(fā)明還存在不足或改進之處的技術。??背景技術的撰寫目的

??背景技術的撰寫目的主要是為了便于理解本發(fā)明和檢索現(xiàn)有技術。

??背景技術的撰寫要求

??專利法實施細則第十七條第1款中規(guī)定：

??(二)背景技術：寫明對發(fā)明或者實用新型的理解、檢索、審查有用的背景技術;有可能的，并引證反映這些背景技術的文件。

??背景技術與現(xiàn)有技術的關聯(lián)

??背景技術可以屬于現(xiàn)有技術，但并不必然屬于現(xiàn)有技術。當有證據(jù)證明該背景技術所記載的內(nèi)容確實在本專利申請日(或優(yōu)先權日)之前已經(jīng)被公開，它自然屬于現(xiàn)有技術。如果申請文件的撰寫人掌握了申請日(或優(yōu)先權日)前還未公開的技術，即使他認為該技術還存在不足并把它寫進本發(fā)明的背景技術中，也不能認為該技術為現(xiàn)有技術。