曝光顯影直接決定蝕刻圖案的準(zhǔn)確性，因此在制作上，需要非常準(zhǔn)確和清晰。操作人員要規(guī)范作業(yè)，避免圖案模糊或者移位影響產(chǎn)品品質(zhì)。經(jīng)過(guò)不斷改良和工藝設(shè)備發(fā)展，曝光就是光圈、快門(mén)和感光度ISO的組合。其中光圈和速度聯(lián)合決定進(jìn)光量，ISO決定ISOCCD/CMOS的感光速度。顯影包括正顯影和反轉(zhuǎn)顯影；正顯影中顯影色粉所帶電荷的極性，與感光鼓表面靜電潛像的電荷極性是相反的，反轉(zhuǎn)顯影中感光鼓與色粉電荷極性是相同的。


感光(曝光)完成后就要進(jìn)行下一步工作——顯影。顯影的目的是通過(guò)顯影藥將未曝光的地方?jīng)_走，經(jīng)過(guò)曝光的地方固化，這樣就能確定需要被腐蝕和不被腐蝕的圖案。以便后續(xù)蝕刻加工的精度。一般都是采用氫氧化na水溶液，氫氧化na水溶液濃度大概是5%，溫度大約在50攝氏度，浸泡3-5分鐘，時(shí)間可根據(jù)具體情況加長(zhǎng)點(diǎn)。氫氧化na水溶液浸泡后，拿出板材，冷水沖洗，就可以很好地去掉感光蝕刻油墨了。

在了解曝光顯影在蝕刻加工中的作用前，我們要先了解一下什么是曝光顯影。簡(jiǎn)單來(lái)說(shuō)曝光顯影是蝕刻加工中確定需要被腐蝕和不被腐蝕部分的工藝，準(zhǔn)確的曝光顯影才能保證產(chǎn)品的精度。

蝕刻、曝光和顯影是什么意思?

1、蝕刻：利用蝕刻液與銅層反應(yīng),蝕去線路板上不需要的銅,得到所要求的線路.

2、曝光：經(jīng)光源作用將原始底片上的圖像轉(zhuǎn)移到感光底板(即PCB)上.

3、顯影：通過(guò)堿液作用,將未發(fā)生光聚合反應(yīng)之感光材料部分沖掉.

絲印感光蝕刻油墨是一種單組分蝕刻油墨，其主要成分是環(huán)氧樹(shù)脂。主要應(yīng)用于電路板線路的蝕刻以及五金標(biāo)牌、表殼、不銹鋼板、鋁板等金屬材料的酸性和堿性腐蝕中。一般蝕刻液為氯化鐵或者氯化銅，感光蝕刻油墨印刷于金屬表面烘干或自然干燥后，然后曝光顯影，利用蝕刻液腐蝕掉未曝光的部分。

曝光后要檢測(cè)曝光后的圖形質(zhì)量，若有遺漏需要進(jìn)行人工補(bǔ)油補(bǔ)點(diǎn)。補(bǔ)油后需要進(jìn)行第二次烘烤。

之后就進(jìn)行顯影，確定圖形的清洗度，顯影過(guò)程中主要是控制藥的濃度，溫度，速度以及完成后的烘干溫度。