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在了解曝光顯影在蝕刻加工中的作用前,我們要先了解一下什么是曝光顯影。簡單來說曝光顯影是蝕刻加工中確定需要被腐蝕和不被腐蝕部分的工藝,準(zhǔn)確的曝光顯影才能保證產(chǎn)品的精度。
蝕刻、曝光和顯影是什么意思?
1、蝕刻:利用蝕刻液與銅層反應(yīng),蝕去線路板上不需要的銅,得到所要求的線路.
2、曝光:經(jīng)光源作用將原始底片上的圖像轉(zhuǎn)移到感光底板(即PCB)上.
3、顯影:通過堿液作用,將未發(fā)生光聚合反應(yīng)之感光材料部分沖掉.
蝕刻速度決定了蝕刻加工周期的長短,蝕刻速度越快,蝕刻加工周期越短,生產(chǎn)效率越高,反之生產(chǎn)效率較低。但是,蝕刻速度也并非越快越好:
對于整體蝕刻或成型的化學(xué)蝕刻加工及鏤空圖文的蝕刻往往都是兩個面同時進(jìn)行。這種雙面蝕刻加工的速度比只在一個面進(jìn)行的蝕刻加工的速度快1倍,在金屬材料一定的情況下,影響蝕刻加工速度的因素很多,其中主要的是蝕刻劑的種類、濃度及蝕刻溫度。如果蝕刻劑的濃度及蝕刻條件一定,材料的特性及熱處理狀態(tài)對蝕刻加工的速度同樣有很大的影響。