曝光顯影直接決定蝕刻圖案的準(zhǔn)確性，因此在制作上，需要非常準(zhǔn)確和清晰。操作人員要規(guī)范作業(yè)，避免圖案模糊或者移位影響產(chǎn)品品質(zhì)。經(jīng)過不斷改良和工藝設(shè)備發(fā)展，曝光就是光圈、快門和感光度ISO的組合。其中光圈和速度聯(lián)合決定進(jìn)光量，ISO決定ISOCCD/CMOS的感光速度。顯影包括正顯影和反轉(zhuǎn)顯影；正顯影中顯影色粉所帶電荷的極性，與感光鼓表面靜電潛像的電荷極性是相反的，反轉(zhuǎn)顯影中感光鼓與色粉電荷極性是相同的。


在了解曝光顯影在蝕刻加工中的作用前，我們要先了解一下什么是曝光顯影。簡單來說曝光顯影是蝕刻加工中確定需要被腐蝕和不被腐蝕部分的工藝，準(zhǔn)確的曝光顯影才能保證產(chǎn)品的精度。蝕刻后一般都要去掉保護(hù)部分的油墨，現(xiàn)在市面上用得比較多的是曝光顯影型感光藍(lán)油。感光藍(lán)油該如何清洗掉呢，一般都是采用氫氧化na水溶液，氫氧化na水溶液濃度大概是5%，溫度大約在50攝氏度，浸泡3-5分鐘，時(shí)間可根據(jù)具體情況加長點(diǎn)。氫氧化na水溶液浸泡后，拿出板材，冷水沖洗，就可以很好地去掉感光蝕刻油墨了。

蝕刻速度決定了蝕刻加工周期的長短，蝕刻速度越快，蝕刻加工周期越短，生產(chǎn)效率越高，反之生產(chǎn)效率較低。但是，蝕刻速度也并非越快越好：

對于整體蝕刻或成型的化學(xué)蝕刻加工及鏤空圖文的蝕刻往往都是兩個(gè)面同時(shí)進(jìn)行。這種雙面蝕刻加工的速度比只在一個(gè)面進(jìn)行的蝕刻加工的速度快1倍，在金屬材料一定的情況下，影響蝕刻加工速度的因素很多，其中主要的是蝕刻劑的種類、濃度及蝕刻溫度。如果蝕刻劑的濃度及蝕刻條件一定，材料的特性及熱處理狀態(tài)對蝕刻加工的速度同樣有很大的影響。

金屬蝕刻在生活中的應(yīng)用用途：石油、化工、食品、制藥用精密過濾網(wǎng)、過濾板、過濾筒、過濾器；電子行業(yè)用金屬漏板、蓋板、平面引腳、引線框架、金屬基片；精密光學(xué)及機(jī)械平面零件、彈簧零件；摩擦片及其它凹凸型平面零件；金屬標(biāo)牌及圖案復(fù)雜的金屬裝飾板和精美工藝品。用于集成電路印刷，熒光屏電子格柵，準(zhǔn)確過濾，微電極元件，電子行業(yè)的平面引腳、引線框架、基片等。還可制造標(biāo)牌、商標(biāo)及精美工藝品。