電光調(diào)制器

電光調(diào)制器是利用介質(zhì)的線性電光效應(yīng)。在外加調(diào)制信號(hào)時(shí)，介質(zhì)的折射率在信號(hào)電場(chǎng)的作用下由于電光效應(yīng)而產(chǎn)生變化，當(dāng)光載波進(jìn)入調(diào)制器后這種變化后將引起光載波的相位、振幅或頻率上的變化。

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光波在介質(zhì)中的傳播規(guī)律受到介質(zhì)折射率分布的制約，而折射率的分布又與其介電常量（電容率）密切相關(guān)。光調(diào)制器按照其調(diào)制原理來(lái)講，可分為電光、熱光、聲光、全光等，它們所依據(jù)的基本理論是各種不同形式的電光效應(yīng)、聲光效應(yīng)、磁光效應(yīng)、Franz-Keldysh效應(yīng)、量子阱Stark效應(yīng)、載流子色散效應(yīng)等。晶體折射率可用施加電場(chǎng)E的冪級(jí)數(shù)表示，即或?qū)懗墒街校?γE 是一次項(xiàng)，由該項(xiàng)引起的折射率變化，稱(chēng)為線性電光效應(yīng)或泡克耳斯(Pockels)效應(yīng)；由二次項(xiàng) bE2 引起的折射率變化，稱(chēng)為二次電光效應(yīng)或克爾（Kerr ）效應(yīng)。對(duì)于大多數(shù)電光晶體材料，一次效應(yīng)要比二次效應(yīng)顯著，可略去二次項(xiàng)。

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電光調(diào)制器分類(lèi)

（1）偏振無(wú)關(guān)相位調(diào)制器

KG-IDPM 系列 LiNbO3偏振無(wú)關(guān)相位調(diào)制器采用先進(jìn)的鈦擴(kuò)散工藝，可以同時(shí)實(shí)現(xiàn)對(duì)兩個(gè)偏振態(tài)的調(diào)制，同時(shí)具有低插入損耗、低半波電壓、高損傷光功率等特點(diǎn)，主要用于高速光通信系統(tǒng)中光啁啾控制以及光纖傳感等領(lǐng)域。

2）偏振相關(guān)相位調(diào)制器

KG-PM 系列鈮酸鋰電光相位調(diào)制器采用先進(jìn)的質(zhì)子交換工藝，具有低插入損耗、高調(diào)制帶寬、低半波電壓等特點(diǎn)，主要用于空間光通信系統(tǒng)、相干合成、光譜展寬、干涉測(cè)量等領(lǐng)域。

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