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PVD真空鍍膜有三種方式,即揮發(fā)鍍膜、磁控濺射鍍膜和離子鍍。在其中,揮發(fā)物質(zhì)的分子被電子器件撞擊弱電解質(zhì)后,以正離子沉積在固態(tài)表面,稱(chēng)之為離子鍍。這類(lèi)技術(shù)是D.麥托阿斯特里于1963年明確提出的。離子鍍是真空蒸發(fā)與負(fù)極磁控濺射技術(shù)的融合。真空泵離子鍍膜又可分成電孤離子鍍、磁控濺射離子鍍、中空負(fù)極離子鍍膜三種方法。
辨別一家好的真空鍍膜加工廠(chǎng),可以大概從如下五個(gè)方面加以衡量:車(chē)間環(huán)境:是否具有三級(jí)凈化供風(fēng)系統(tǒng),是否真的無(wú)塵車(chē)間,人員進(jìn)出及貨物進(jìn)出是否嚴(yán)格管制走風(fēng)淋門(mén),風(fēng)淋門(mén)是否能正常工作、車(chē)間地板、墻壁、天花、貨架上是否潔凈無(wú)灰塵,現(xiàn)場(chǎng)5S是否整潔;人員穿著:所有人員進(jìn)出車(chē)間是否穿著防靜電無(wú)塵衣帽、靜電無(wú)塵鞋;