光學(xué)鍍膜材料真空應(yīng)用領(lǐng)域

真空鍍膜是真空應(yīng)用領(lǐng)域的一個重要方面，它是以真空技術(shù)為基礎(chǔ)，利用物理或化學(xué)方法，并吸收電子束、分子束、離子束、等離子束、射頻和磁控等一系列新技術(shù)，為科學(xué)研究和實(shí)際生產(chǎn)提供薄膜制備的一種新工藝。簡單地說，在真空中把金屬、合金或化合物進(jìn)行蒸發(fā)或?yàn)R射，使其在被涂覆的物體（稱基板、基片或基體）上凝固并沉積的方法，稱為真空鍍膜。

眾所周知，在某些材料的表面上，只要鍍上一層薄膜，就能使材料具有許多新的、良好的物理和化學(xué)性能。在物體表面上鍍膜的方法主要有電鍍法和化學(xué)鍍法。前者是通過通電，使電解液電解，被電解的離子鍍到作為另一個電極的基體表面上，因此這種鍍膜的條件，基體必須是電的良導(dǎo)體，而且薄膜厚度也難以控制。后者是采用化學(xué)還原法，必須把膜材配制成溶液，并能迅速參加還原反應(yīng)，這種鍍膜方法不僅薄膜的結(jié)合強(qiáng)度差，而且鍍膜既不均勻也不易控制，同時還會產(chǎn)生大量的廢液，造成嚴(yán)重的污染。因此，這兩種被人們稱之為濕式鍍膜法的鍍膜工藝受到了很大的限制。

AF光學(xué)鍍膜機(jī)

該設(shè)備是至成鍍膜機(jī)廠家真空針對數(shù)碼光電行業(yè)視窗鏡片及殼料加工推出的新型真空鍍膜設(shè)備，目標(biāo)對準(zhǔn)行業(yè)當(dāng)前對手機(jī)屏幕視窗蓋板、鏡頭視窗鏡片、殼體及五金件的真空涂層性能更高要求的解決方案：

性能和產(chǎn)率：提高AF(防指印或稱AS防污染)真空膜層的性能，并通過提高設(shè)備產(chǎn)率和穩(wěn)定性、降低材料消耗來大幅降低成本。

適用性：除手機(jī)、平板電腦、車載顯示器等觸控產(chǎn)品外，也適用于在其他數(shù)碼產(chǎn)品、電器、衛(wèi)浴等塑膠和金屬件的裝飾和功能薄膜上加鍍AF、AS涂層，提高光滑度、易清潔性。

光學(xué)鍍膜的作用介紹

光學(xué)鍍膜由薄膜層組合制作而成，它產(chǎn)生干擾效應(yīng)來提高光學(xué)系統(tǒng)內(nèi)的透射率或反射性能。光學(xué)鍍膜的性能取決于層數(shù)、個別層的厚度和不同的層接口折射率。用于精密光學(xué)的常見鍍膜類型：增透膜(AR)、高反射（鏡）膜、分光鏡膜和過濾光片膜。增透膜包括在高折射率的光學(xué)中并用于化光通量和降低鬼影。高反射膜的設(shè)計可在單個波長或范圍廣泛的整個波長以反射。分光鏡膜用于將入射光分為已知的透射光和反射光輸出。濾光片應(yīng)用于大量的工業(yè)應(yīng)用中，并以特定波長用于透射、反射、吸收或衰減光。愛特蒙特光學(xué)還可以提供各種定制鍍膜滿足任何應(yīng)用程序需要。

光學(xué)鍍膜經(jīng)過精心設(shè)計用于特定的入射光角和特定的偏振光，例如S偏振光、P偏振光或隨機(jī)偏振光等。如果鍍膜設(shè)計的入射光角為0°，但使用時的入射光角為45°，則鍍膜將不會以規(guī)定的透射率/反射規(guī)格執(zhí)行。同樣地，鍍膜一般設(shè)計用于隨機(jī)偏振光，因此在設(shè)計用于隨機(jī)偏振光的鍍膜上使用S偏振光或P偏振光將會再次產(chǎn)生無效的規(guī)格。

光學(xué)鍍膜是由沉積電介質(zhì)和金屬材料制作而成，例如薄層中的Ta2O5和/或Al2O3，在應(yīng)用中使用的光波長通常是四分之一波長光學(xué)厚度(QWOT)或半波光學(xué)厚度(HWOT)。這些薄膜由高折射率和低折射率層交替而成，從而誘發(fā)需要的干擾效應(yīng)。請參閱圖1有關(guān)寬帶增透膜設(shè)計的樣品說明。