湖北豐熱科技有限公司（原武漢離子熱處理研究所），專業(yè)制造輝光離子滲氮爐的高新技術(shù)企業(yè)；是集研發(fā)、生產(chǎn)、銷售安裝輝光離子滲氮爐，并為用戶提供成套的離子滲氮工藝技術(shù)服務(wù)。

離子滲氮是在低真空含氮氣氛中，利用模具（陰極）和陽極之間產(chǎn)生的輝光放電進(jìn)行滲氮的工藝，與氣體滲氮相比工作環(huán)境好。由于離子氮化法不是依靠化學(xué)反應(yīng)作用，而是利用離子化了的含氮氣體進(jìn)行氮化處理，所以工作環(huán)境十分清潔而無需防止公害的特別沒備。用于磁控濺射鍍膜氣體放電的交流電源主要有雙極性脈沖(矩形波或正弦波)中頻靶電源與射頻靶電源兩大類別。因而，離子氮化法也被稱作“綠色”氮化法。

利用稀薄氣體的輝光放電現(xiàn)象加熱工件表面和電離化學(xué)熱處理介質(zhì)，使之實現(xiàn)在金屬表面滲入欲滲元素的工藝稱為輝光放電離子化學(xué)熱處理，簡稱離子化學(xué)熱處理。因為在主要工作空間內(nèi)是等離子體，故又稱等離子化學(xué)熱處理。

輝光放電時，在放電管兩極電場的作用下，電子和正離子分別向陽極、陰極運動，并堆積在兩極附近形成空間電荷區(qū)。因正離子的漂移速度遠(yuǎn)小于電子，故正離子空間電荷區(qū)的電荷密度比電子空間電荷區(qū)大得多，使得整個極間電壓幾乎全部集中在陰極附近的狹窄區(qū)域內(nèi)。1988年，Kanazawa等人報道了在大氣壓下使用氦氣獲得了穩(wěn)定的APGD的研究成果，并通過實驗總結(jié)出了產(chǎn)生APGD要滿足的三個條件：（1）激勵源頻率需在1kHz以上。這是輝光放電的顯著特征，而且在正常輝光放電時，兩極間電壓不隨電流變化 。