常用的光學鍍膜有哪些？

二，光學薄膜

減反射膜是應用廣、產量大的一種光學薄膜，因此，它至今仍是光學薄膜技術中重要的研究課題，研究的重點是尋找新材料，設計新膜系,改進淀積工藝,使之用少的層數，簡單、穩(wěn)定的工藝，獲得盡可能高的成品率，達到理想的效果。對激光薄膜來說，減反射膜是激光損傷的薄弱環(huán)節(jié)，如何提高它的破壞強度，也是人們關心的問題之一。

反射膜

它的功能是增加光學表面的反射率。反射膜一般可分為兩大類，一類是金屬反射膜，一類是全電介質反射膜。此外，還有把兩者結合起來的金屬電介質反射膜。

一般金屬都具有較大的消光系數，當光束由空氣入射到金屬表面時，進入金屬內部的光振幅迅速衰減，使得進入金屬內部的光能相應減少，而反射光能增加。消光系數越大，光振幅衰減越迅速，進入金屬內部的光能越少，反射率越高。人們總是選擇消光系數較大，光學性質較穩(wěn)定的那些金屬作為金屬膜材料。在紫外區(qū)常用的金屬薄膜材料是鋁，在可見光區(qū)常用鋁和銀，在紅外區(qū)常用金、銀和銅，此外，鉻和鉑也常用作一些特種薄膜的膜料。由于鋁、銀、銅等材料在空氣中很容易氧化而降低性能，所以必須用電介質膜加以保護。常用的保護膜材料有一氧化硅、氟化鎂、二氧化硅、三氧化二鋁等。金屬反射膜的優(yōu)點是制備工藝簡單，工作的波長范圍寬；缺點是光損耗大，反射率不可能很高。為了使金屬反射膜的反射率進一步提高，可以在膜的外側加鍍幾層一定厚度的電介質層，組成金屬電介質反射膜。需要指出的是，金屬電介質反射膜增加了某一波長（或者某一波區(qū)）的反射率，卻破壞了金屬膜中性反射的特點。

真空鍍膜機鍍鋁性能與哪些因素有關

真空鍍膜機鍍鋁性能取決于塑件和鍍膜層的質量，被人戲稱為富人的游戲，說明鍍膜質量要求相當高。鍍膜質量的關鍵是底漆層質量。雖有無底涂鍍膜，但其模具質量要求和成本高，存在真空鍍膜機鍍鋁反射亮度不足和塑件缺陷等問題，易導致鍍鋁產品報廢率居高不下。一般而言，無底涂的報廢率在10%左右，有底涂在20%左右，甚至會更高。為解決這一困惑，國內有廠家經過10多年的努力，采用了爐內噴涂底漆并固化使鍍件生成高亮的表面(無污染殘留物)，進行高壓離子清洗預處理，真空蒸發(fā)鍍鋁和鍍保護膜，使產品的合格率在98%以上，每年可節(jié)省大量的噴漆、烤漆能耗和人工成本等。

真空鍍膜與光學鍍膜的區(qū)別

1、真空鍍膜是以真空技術為基礎，利用物理或化學方法，并吸收電子束、分子束、離子束、等離子束、射頻和磁控等一系列新技術。而光學鍍膜是用物理或化學的方法在材料表面鍍上一層透明的電解質膜，或鍍一層金屬膜，目的是改變材料表面的反射和透射特性。

2、真空鍍膜是真空應用領域的，而光學鍍膜是指在光學零件表面上鍍上一層(或多層)金屬(或介質)薄膜的工藝過程。

真空鍍膜機鍍膜層厚度范圍

真空鍍膜機鍍膜層厚度范圍 真空鍍膜機能夠沉積的鍍膜層厚度范圍為0.01-0.2，可以在這個范圍內選擇，有的還可以鍍多層膜，滿足多種需要。日本專利提出沉積兩種不同鍍膜材料的卷繞式蒸鍍裝置。該裝置的真空室分為上室，左下室和右下室。蒸鍍時，兩組蒸發(fā)源蒸發(fā)的鍍膜材料分別沉積在塑料薄膜上，在塑料薄膜沒有蒸鍍的一側，裝上輝光放電發(fā)生器。發(fā)生器產生的輝光放電氣體能防止塑料薄膜起皺。使用這套裝置可以在極薄的塑料薄膜上鍍上無折皺的多層膜，用于制磁帶和薄膜太陽能電池等。