微弧氧化技術(shù)特點(diǎn)

1、提高材料表面硬度微弧氧化膜層為表面多孔（孔徑為幾微米）、內(nèi)部致密的陶瓷層。 膜層硬度高（維氏硬度可由幾百至三千左右） 膜層與基體為冶金結(jié)合、厚度在幾微米至幾百微米之間。微弧氧化技術(shù)、微弧氧化生產(chǎn)線

2、微弧氧化技術(shù)絕緣性好耐熱性高，可承受高溫使用，范圍根據(jù)基材熔點(diǎn)溫度 有良好的絕緣性能，絕緣電阻膜阻>100MΩ 絕緣耐壓>5000V/秒。微弧氧化電源、微弧氧化生產(chǎn)工藝

微弧氧化技術(shù)的原理及特點(diǎn)     

       微弧氧化陶瓷技術(shù)是一種在鋁、鎂、鈦等輕金屬合金表面原位生長(zhǎng)陶瓷層的高新技術(shù)。微弧氧化原理是在工件表面生成陽(yáng)極化膜的同時(shí)，通過(guò)微電弧瞬時(shí)7000K高溫把極化膜轉(zhuǎn)為陶瓷相。該陶瓷層硬度高、高耐磨、韌性好、與基體結(jié)合力強(qiáng)、耐腐蝕、耐高溫氧化、絕緣性好，特別適用于高速運(yùn)動(dòng)且需要高耐磨、耐腐蝕、抗高溫沖擊的輕金屬合金零部件。微弧氧化技術(shù)微弧氧化工藝將工作區(qū)域由普通陽(yáng)極氧化的法拉第區(qū)域引入到高壓放電區(qū)域，克服了硬質(zhì)陽(yáng)極氧化的缺陷，極大地提高了膜層的綜合性能。微弧氧化技術(shù)、微弧氧化生產(chǎn)線、微弧氧化電源、微弧氧化工藝

       鋁合金微弧氧化又稱等離子體微弧氧化，等離子體陶瓷化或火花放電沉積技術(shù)。它是在普通陽(yáng)極氧化基礎(chǔ)上通過(guò)提升電壓等措施發(fā)展起來(lái)的，是通過(guò)電解液與相應(yīng)電參數(shù)的組合，在鋁、鎂、鈦及其合金表面依靠弧光放電產(chǎn)生的瞬時(shí)高溫高壓作用，生長(zhǎng)出以基體金屬氧化物為主的陶瓷膜層。為此微弧氧化膜的硬度和耐磨性都得到明顯提高，其耐腐蝕性和電絕緣性也隨之有較大的提高。該技術(shù)的基本原理及特點(diǎn)是：在普通陽(yáng)極氧化的基礎(chǔ)上，利用弧光放電增強(qiáng)并ji活在陽(yáng)極上發(fā)生的反應(yīng)，從而在以鋁、鈦、鎂金屬及其合金為材料的工件表面形成優(yōu)質(zhì)的強(qiáng)化陶瓷膜的方法。