微弧氧化膜的優(yōu)勢

微弧氧化膜與普通陽極氧化膜相比， 這種膜的空隙率大大降低，從而使耐蝕性和耐磨性有了較大提高。一平方厘米電弧可以分解出來10億個以上的小弧斑，再把弧的開斷時間控制在百萬分之一秒內(nèi)，這個小弧斑可以在物質(zhì)表面形成融溶噴射現(xiàn)象。目前，微弧氧化技術(shù)主要應(yīng)用于Al、Mg、Ti 等有色金屬或其合金的表面處理中。鎂合金微弧氧化技術(shù)所形成的氧化膜主要由MgO 和MgAl2 O4 尖晶石相組成，總膜厚可達100 Lm以上, 具有明顯的三層結(jié)構(gòu): 外部的疏松層、中間的致密層和內(nèi)部的結(jié)合層。

微弧氧化電源、微弧氧化生產(chǎn)線、微弧氧化技術(shù)、微弧氧化

微弧氧化技術(shù)的特點

1、大幅度地提高了材料的表面硬度，顯微硬度在 1000 至 2000hv ，高可達 3000hv ，可與硬質(zhì)合金相媲美，大大超過熱處理后的高碳鋼、高合金鋼和高速工具鋼的硬度；

2、有良好的絕緣性能，絕緣電阻可達 100m ω。

3、溶液為環(huán)保型，符合環(huán)保排放要求。

4、工藝穩(wěn)定且可靠 , 設(shè)備工藝簡單， 。

5、 反應(yīng)在常溫下進行，操作方便，易于掌握。

微弧氧化

采用微弧氧化技術(shù)對鋁及其合金材料進行表面強化處理，具有工藝過程簡單，占地面積小，處理能力強，生產(chǎn)，適用于大工業(yè)生產(chǎn)等優(yōu)點。微弧氧化電解液不含有毒物質(zhì)和重金屬元素，電解液抗污染能力強和再生重復(fù)使用率高，因而對環(huán)境污染小，滿足清潔生產(chǎn)的需要，也符合我國可持續(xù)發(fā)展戰(zhàn)略的需要。陽極氧化發(fā)生的是化學反應(yīng)，而微弧氧化除化學反應(yīng)外，還伴隨有電化學、高溫等離子體等反應(yīng)。微弧氧化處理后的鋁基表面陶瓷膜層具有硬度高，耐蝕性強（CASS鹽霧試驗>480h），絕緣性好（膜阻>100MΩ），膜層與基底金屬結(jié)合力強，并具有很好的耐磨和耐熱沖擊等性能。微弧氧化技術(shù)工藝處理能力強，可通過改變工藝參數(shù)獲取具有不同特性的氧化膜層以滿足不同目的的需要；也可通過改變或調(diào)節(jié)電解液的成分使膜層具有某種特性或呈現(xiàn)不同顏色；還可采用不同的電解液對同一工件進行多次微弧氧化處理，以獲取具有多層不同性質(zhì)的陶瓷氧化膜層。

微弧氧化技術(shù)特點

（1）氧化膜具有陶瓷結(jié)構(gòu)特征。

（2）原位生長。

（3）氧化膜均勻增厚。

（4）無污染：無環(huán)保限制元素加入，基本無廢水排放。

制備工藝簡單。

（5）表面硬度高，顯微硬度在400至1500HV；

（6）耐磨損性能與硬質(zhì)合金相當；

（7）耐腐蝕性能：鹽霧試驗鋁合金1000－2000小時 ；鎂

合金經(jīng)封孔后耐鹽霧可達1000小時以上。

（8）耐熱性能：300℃水中淬火35次未見變化，1300℃

沖擊5次不脫落、不龜裂。

（9）絕緣性能：膜厚不同,表面電阻達  109－12Ω