影響鍍膜機磁控靶點火電壓的因素有哪些

靶材對點火電壓的影響

(1)陰極靶材的不同材質，因濺射的能量閥值的不同，一般濺射“逸出功”較小的陰極靶材，其點火電壓和工作的電壓要低一些，反之則會高一些。(2)鐵磁性靶材(鐵、鈷、鎳、氮化鐵等)和鐵素體靶材，會偏轉和減少陰極濺射靶面磁場對磁控靶造成影響。靶面磁場的降低，使磁控靶需要很高的電壓才能點火起輝。(3)點火電壓與磁控靶靶材濺射面積和真空腔體的機械尺寸大小有關。靶材濺射面積大，或是真空腔體的機械尺寸大，相應充入工作氣體的數量值較多，在同一陰-陽極電壓下，工作氣體例如氣電離出導電正離子和電子亦增多，導致點火電壓下降(在鍍膜時還會造成磁控靶濺射電壓一定程度上的降低)。

磁控濺射鍍膜靶電源的空載電壓

(1)靶電源輸出的空載電壓主要供磁控靶“點火起輝”用，其峰值電壓大體可分為三擋，即：800V-1KV-1.2(或1.3)KV左右。(2)大約在5KW以下的靶電源輸出空載電壓的峰-峰值Vp-p一般在1~1.3KV左右;5KW以上的靶電源其輸出的空載電壓的峰-峰值Vp-p大約在800~1KV;且電源功率越大,其輸出的空載電壓越接近偏小值。(3)鐵磁性靶材(鐵、鈷、鎳、氮化鐵)以及其它鐵素體靶材，在選用靶電源輸出的空載電壓時，須選擇靶電源輸出空載電壓峰-峰值Vp-p范圍的偏大數值。

真空鍍膜設備維護和保養(yǎng)方法：

（1）真空鍍膜設備每完成200個鍍膜程序以上，應清潔工作室一次。

方法是：用（NaOH）飽和溶液反復擦洗真空室內壁，（注意人體皮膚不可以直接接觸溶液，以免灼傷）目的是使鍍上去的膜料鋁（AL）與NaOH發(fā)生反應，反應后膜層脫落，并釋放出氫氣。再用清水清洗真空室和用布沾清洗精抽閥內的污垢。

（2）當粗抽泵（滑閥泵，旋片泵）連續(xù)工作一個月（雨季減半），需更換新油。

方法是：擰開放油螺栓，放掉舊油，再將泵啟動數秒，使泵內的舊油完全排放出來。擰回放油螺栓，加入新油至額定量（油視鏡觀察）。連續(xù)使用半年以上，換油時應將油蓋打開，用布擦干凈箱內污垢。

真空鍍膜機所以在后掩蔽和清洗輥速度不太快

蒸發(fā)鍍膜成分均勻性不易確保，與特定的因素能夠操控，但由于有限的原理，對非單組分涂料，蒸發(fā)鍍膜成分均勻性欠好。濺射能夠簡略地理解為電子或高能激光炮擊方針的運用，使得外表成分的自由基或離子方式濺射，并堆積在襯底外表的成膜過程中，經歷，終構成薄膜。真空鍍膜機的設備濺射被分為很多類型，在濺射速率不同點和蒸發(fā)將變成一個首要的參數。

激光濺射PLD濺射涂層的成分均勻性，易于保護，和原子標準的厚度均勻性較差（由于脈沖濺射），晶體取向（外）成長的操控也更通常的。

機床的正常運行的情況下，真空鍍膜機發(fā)動機器，你有必要首要翻開水管，應一直注意在作業(yè)水壓力

同時，離子炮擊和蒸發(fā)，應特別注意高壓電線連接器，不能觸摸，以防。涂層中的電子槍，對鋁的外圍鈴。好用鉛玻璃調查窗玻璃，應戴上眼鏡調查鉛玻璃，避免X射線對人體的。多層介質膜的涂層的堆積，真空鍍膜機應當裝置通風除塵設備，及時掃除有害粉塵。

真空鍍膜機為塑料件鍍膜時抽真空時間長的原因

真空鍍膜機是在真空室中利用電阻加熱法，將緊貼在電阻絲上的金屬絲熔融汽化，汽化了的金屬分子沉積于基片上，而獲得光滑反射率的膜層，達到裝飾美化物品表面的目的。獲得價廉物美的塑料件表面裝飾的理想設備，任意底色的塑料經車燈鍍膜機后皆可鍍成金屬薄膜、七彩膜、仿金膜等，具有提高產品檔次、外觀更顯華貴作用。廣泛應用于塑料（ABS、APS、PU、PS、PP、PVC）、尼龍、陶瓷、樹脂、玻璃等材料的玩具、飾物、工藝品、手機殼、電子產品、燈飾配件、化妝包裝等行業(yè)。