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NR21 20000P光刻膠公司擇優(yōu)推薦「在線咨詢」

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發(fā)布時間:2021-08-01 19:31  






光刻膠分類


市場上,光刻膠產(chǎn)品依據(jù)不同標(biāo)準(zhǔn),可以進行分類。依照化學(xué)反應(yīng)和顯影原理分類,光刻膠可以分為正性光刻膠和負(fù)性光刻膠。使用正性光刻膠工藝,形成的圖形與掩膜版相同;使用負(fù)性光刻膠工藝,形成的圖形與掩膜版相反。

按照感光樹脂的化學(xué)結(jié)構(gòu)分類,光刻膠可以分為①光聚合型,采用烯類單體,在光作用下生成自由基,進一步引發(fā)單體聚合,后生成聚合物,具有形成正像的特點;②光分解型,采用含有疊氮醌類化合物的材料,其經(jīng)光照后,發(fā)生光分解反應(yīng),可以制成正性膠;③光交聯(lián)型,采用聚乙烯醇月桂酸酯等作為光敏材料,在光的作用下,形成一種不溶性的網(wǎng)狀結(jié)構(gòu),而起到抗蝕作用,可以制成負(fù)性光刻膠。今年5月,02重大專項實施管理辦公室組織任務(wù)驗收專家組、財務(wù)驗收專家組通過了“極紫外光刻膠材料與實驗室檢測技術(shù)研究”項目的任務(wù)驗收和財務(wù)驗收。

按照曝光波長分類,光刻膠可分為紫外光刻膠(300~450nm)、深紫外光刻膠(160~280nm)、極紫外光刻膠(EUV,13.5nm)、電子束光刻膠、離子束光刻膠、X射線光刻膠等。利用感光與未感光光刻膠對堿性溶劑的不同溶解度,就可以進行掩膜圖形的轉(zhuǎn)移。不同曝光波長的光刻膠,其適用的光刻極限分辨率不同,通常來說,在使用工藝方法一致的情況下,波長越小,加工分辨率越佳。


LCD市場助力

全球LCD面板總出貨面積增長,LCD光刻膠需求增加。光刻膠基于應(yīng)用領(lǐng)域不同一般可以分為半導(dǎo)體集成電路(IC)光刻膠、PCB光刻膠以及LCD光刻膠三個大類。據(jù)WitsView數(shù)據(jù),雖然近三年國際LCD廠商面板出貨量有所下降,但是由于大屏顯示的市場擴增,LCD整體出貨面積變大,2016年出貨總面積達(dá)到1.7億平方米,同比增長4.6%。隨著LCD出貨面積的持續(xù)增長,中國產(chǎn)業(yè)信息網(wǎng)預(yù)測,未來幾年全球LCD光刻膠的需求量增長速度為4%~6%。隨著國內(nèi)廠商占據(jù)LCD市場比重越來越大,國內(nèi)LCD光刻膠需求也會持續(xù)增長。


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光刻膠存儲條件及操作防護

光刻膠是一種可燃液體,儲存條件應(yīng)符合對應(yīng)的法規(guī),不要與強氧化劑混合,存放在通風(fēng)良好的地方,保持容器密閉,避免吸入蒸汽或霧氣,避免接觸眼睛、皮膚或衣服,操作后徹底清洗。


個人防護

眼睛:佩戴化學(xué)飛濺護目鏡。

皮膚:戴上適當(dāng)?shù)姆雷o手套防止皮膚暴露。


服裝:穿戴合適的防護服防止皮膚暴露。

呼吸器:無論何時在工作環(huán)境下呼吸保護必須遵循中國職業(yè)安全健康管理局標(biāo)準(zhǔn)的規(guī)定和ANSI美國國家標(biāo)準(zhǔn)學(xué)會Z88.2的相關(guān)要求,或必須執(zhí)行歐洲呼吸防護EN 149的標(biāo)準(zhǔn)。



?Futurrex

提供先進化學(xué)技術(shù)的多樣化解決方案

成立于1985年,總部設(shè)在美國新澤西州,富蘭克林市,高速成長并超過20年連續(xù)盈利的跨國公司

公司業(yè)務(wù)覆蓋范圍包括北美,亞太以及歐洲

基于多樣化的技術(shù)

應(yīng)用領(lǐng)域:微電子、光電子、LED、太陽能光伏、微機電系統(tǒng)、生物芯片、微流體、平面印刷

解決方案:的光刻膠、摻雜涂層、平坦化涂層、旋制氧化硅(spin-onglase)。阻擋層(Barrior Layere)、濕法制程

客戶:從財富100強到以風(fēng)險投資為背景的設(shè)備研發(fā)及制造公司

使命

目標(biāo)

提供特殊化學(xué)品和全新工藝來增加客戶的產(chǎn)能

策略

提供獨特的產(chǎn)品來優(yōu)化生產(chǎn)制程,以提高設(shè)備能效

領(lǐng)的技術(shù)提升生產(chǎn)過程中的整體性價比

工藝步驟的減少降低了成本和產(chǎn)生瑕疵的可能

增加客戶的產(chǎn)能和生產(chǎn)的效率

工藝減化

非同尋常的顯微構(gòu)造、金屬及介電層上的圖形轉(zhuǎn)換、光刻、平坦化、摻雜、蝕刻、邦定

在生產(chǎn)過程中,不含有害溶劑

支持所有客戶的需要,與客戶共創(chuàng)成功


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