溶液溫度濃度對(duì)微弧氧化膜層性能的影響

1、微弧氧化溶液溫度低時(shí)，氧化膜的生長(zhǎng)速度較快，膜致密，性能較佳。但溫度過(guò)低時(shí)，氧化作用較弱，膜厚和硬度值都較低。

2、微弧氧化溶液溫度過(guò)高時(shí)，堿性電解液對(duì)氧化膜的溶解作用增強(qiáng)，致使膜厚與硬度顯著下降，且溶液易飛濺，膜層也易被局部燒焦或擊穿。所謂以微弧氧化溶液的溫度一定要控制好，這樣才可以提高微弧氧化膜層的性能。

3、溶液酸堿度：酸堿度過(guò)大或過(guò)小，溶解速度都加快，氧化膜生長(zhǎng)速度減慢，所以一般選擇弱堿性溶液。

4、溶液濃度：溶液濃度對(duì)氧化膜的成膜速率、表面顏色和粗糙度都有影響。微弧氧化技術(shù)、微弧氧化生產(chǎn)線、微弧氧化電源

由于鎂合金微弧陶瓷復(fù)合處理技術(shù)繼承了微弧氧化工藝的普遍優(yōu)點(diǎn)，無(wú)需對(duì)工件進(jìn)行復(fù)雜的前處理，大大減少了污水排放，而且處理過(guò)程中無(wú)環(huán)保限制元素加入，實(shí)現(xiàn)了對(duì)環(huán)境的無(wú)污染。其中，微弧氧化表面處理形成保護(hù)膜是提高M(jìn)g及鎂合金材料抗蝕性最非常重要有效的方法。另微弧復(fù)合處理周期短，生產(chǎn)及日常維護(hù)成本低廉，可實(shí)現(xiàn)全自動(dòng)控制生產(chǎn)，生產(chǎn)并且極大節(jié)約了人力資源成本，使其規(guī)?；b備制造業(yè)已無(wú)后患之憂。微弧氧化技術(shù)、微弧氧化工藝

微弧氧化膜層生長(zhǎng)發(fā)育時(shí)，先在基體表面產(chǎn)生放熱反應(yīng)，轉(zhuǎn)化成一層陽(yáng)極處理膜。當(dāng)擴(kuò)大反映電壓時(shí)，膜層厚度會(huì)進(jìn)一步增加，再次增加電壓，厚度會(huì)隨著增加。可是當(dāng)反映電壓增加到一定水平時(shí)，膜層會(huì)因?yàn)椴豢梢猿袚?dān)該工作電壓產(chǎn)生充放電且熱擊穿，造成低溫等離子充放電。反映的高溫將使膜層產(chǎn)生熔化，基體原素因?yàn)樘幱诟谎踝匀画h(huán)境中，將產(chǎn)生化合物。微弧電泳復(fù)合膜層的附著力等級(jí)為1級(jí)，相對(duì)于直接電泳有機(jī)層的附著力有很大提高。另外因?yàn)槭窃阡囯姵仉娊庖褐?，熔化物將一瞬間冷凝器，在基體表面轉(zhuǎn)化成一層瓷器。陶瓷膜的轉(zhuǎn)化成，將造成工作電壓進(jìn)一步上升，膜層再度被熱擊穿，膜層厚度進(jìn)一步增加。循環(huán)反復(fù)，膜層足以生長(zhǎng)發(fā)育。