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真空計是真空磁控濺射鍍膜機器上有什么作用
真空計:真空計是真空磁控濺射鍍膜機器上的重要組成部分,它是檢測鍍膜機真空度的重要手段。真空計根據(jù)其工作原理可以分為真空計和相對真空計,真空計可以直接測量壓強的高低,相對真空計只能間接測量真空度。蒸發(fā)系統(tǒng)主要指成膜裝置部分,鍍膜機器的成膜裝置很多,有電阻加熱、電子槍蒸發(fā)、磁控濺射、射頻濺射、離子鍍等多種方式,鄙人就電阻加熱和電子槍蒸發(fā)兩種方式作介紹,因為此兩種方式我應用的比較多。電子束蒸發(fā)的大優(yōu)點在于:電子束的光斑可以隨意調(diào)整,可以一槍多用,燈絲可以隱藏,避免污染,可以蒸發(fā)任意鍍膜材料,維修方便,蒸發(fā)速度可以隨意控制,材料分解小,膜密度高。機械強度好。成膜控制系統(tǒng),薄膜監(jiān)控目前應用方式比較多,主要有:目視監(jiān)控法,定(極值)值監(jiān)控、水晶振蕩監(jiān)控、時間監(jiān)控等等。本人主要介紹目視監(jiān)控、定(極值)監(jiān)控和水晶振蕩監(jiān)控三種。目視監(jiān)控也叫直接監(jiān)控,就是采用眼睛監(jiān)控,因為薄膜在生長的過程中,由于干涉現(xiàn)象會有顏色變化,我們就是根據(jù)顏色變化來控制膜厚度的,此種方式有一定的誤差,所以不是很準確,需要依靠經(jīng)驗。
真空鍍膜設備作業(yè)時的應急預案,你懂多少?
首先設備工作一段時間,需要清理打掃,一般50到70爐次,需清理打掃,把粉塵清出爐外,然后空爐工作一次。工作的方式是先抽空為真空度高于10-2Pa時加熱,加熱溫度一般高于正常使用溫度的20℃。在高爐溫時保溫一個小時以上,然后自然冷卻。這樣使設備內(nèi)部空間保持清潔。然后應該先涂少量真空泵油對旋轉(zhuǎn)部件的潤滑表面。請注意清潔,非鐵,沙子和灰塵進入真空泵,定位要接觸良好。真空泵的安裝應轉(zhuǎn)動輕松,無凹凸不平和堵塞現(xiàn)象嚴重。真空鍍膜設備所用充氣氣瓶需更換時,拆掉穩(wěn)壓閥,換上一瓶新氣,一定要注意安裝時不許漏氣。在換上新氣瓶后,在工件沒加熱前,應在抽空過程中對爐內(nèi)充氣,以便在換氣瓶過程中造成的管路內(nèi)存有的大氣抽出,使充氣管路保持清潔。正常工作時,如果發(fā)現(xiàn)設備突然漏氣,如馬上能找到泄,須用真空封泥把泄封住,待工作完畢后,再做處理。如不能確定泄露處,則應立即停止工作,然后檢修。
我們經(jīng)常有時候會碰到機器在運行的時候,碰到高溫時斷水、斷電,這是讓人頭疼的事情。因此用戶好在設備安裝時建有備用水箱或者連有自來水管。設備在高溫時斷水、斷電‘此時,泵、閥門均處于關閉狀態(tài),操作人員應馬上接通備用水或自來水,對設備進行水冷,如不能很快來電,還應打開充放氣系統(tǒng)的手動充氣閥,對設備進行充氣保護,充氣壓力為-0.02MPa左右。然后,把控制柜上的所有按鈕關至“關”的位置。同事用濕毛巾搭在電極引出接口處,定期更換,以免電極接口過熱,造成密封圈損壞。
用真空鍍膜技術代替?zhèn)鹘y(tǒng)的電鍍工藝有哪些優(yōu)勢
用真空鍍膜技術代替?zhèn)鹘y(tǒng)的電鍍工藝,不但能節(jié)省大量的膜材和降低能耗,而且還會消除濕法鍍膜中所產(chǎn)生的環(huán)境污染。因此國外在鋼鐵零件涂鍍防腐層和保護膜方面,已采用真空鍍膜工藝來代替電鍍工藝。在冶金工業(yè)中,為鋼鐵和帶鋼加鍍鋁防護層已很普遍;在機械制造業(yè)中,真空鍍膜工藝用于改變改變某些加工工藝和節(jié)約貴重的原材料,如飛機渦輪發(fā)動機的葉片已經(jīng)不用價格昂貴的耐高溫金屬制造,而是采用價格低廉易加工材料,成形后再用真空鍍膜的方法在葉片表面上加鍍耐高溫,耐腐蝕的防護層。再如汽車制造業(yè)中采用塑料制品金屬化零件代替各種金屬零件,既減輕了汽車的重量又節(jié)約了燃油的消耗。在金屬切削刀具上加鍍TiN硬膜可使用刀具壽命提高3~6倍,從而節(jié)省了大量的高速鋼材。塑料薄膜采用真空磁控濺射鍍膜機鍍膜的方法加鍍鋁等金屬膜,再進行染色,可得到用于工業(yè)中的裝飾品薄膜。
真空鍍膜設備中頻磁控濺射知識
真空鍍膜設備中頻磁控濺射知識 源分平衡和非平衡式,平衡式靶源鍍膜均勻,非平衡式靶源鍍膜膜層和基體結(jié)合力強。平衡靶源多用于半導體光學膜,非平衡多用于磨損裝飾膜。 不管平衡非平衡,若磁鐵靜止,其磁場特性決定一般靶材利用率小于30%。為增大靶材利用率,可采用旋轉(zhuǎn)磁場。但旋轉(zhuǎn)磁場需要旋轉(zhuǎn)機構,同時濺射速率要減小。旋轉(zhuǎn)磁場多用于大型或貴重靶。如半導體膜濺射。對于小型設備和一般工業(yè)設備,多用磁場靜止靶源。 用磁控靶源濺射金屬和合金很容易,點火和濺射很方便。這是因為靶(陰極),等離子體,和被濺零件真空腔體可形成回路。但若濺射絕緣體如陶瓷則回路斷了。于是人們采用高頻電源,回路中加入很強的電容。這樣在絕緣回路中靶材成了一個電容。