曝光顯影直接決定蝕刻圖案的準(zhǔn)確性，因此在制作上，需要非常準(zhǔn)確和清晰。操作人員要規(guī)范作業(yè)，避免圖案模糊或者移位影響產(chǎn)品品質(zhì)。經(jīng)過(guò)不斷改良和工藝設(shè)備發(fā)展，曝光就是光圈、快門(mén)和感光度ISO的組合。其中光圈和速度聯(lián)合決定進(jìn)光量，ISO決定ISOCCD/CMOS的感光速度。顯影包括正顯影和反轉(zhuǎn)顯影；正顯影中顯影色粉所帶電荷的極性，與感光鼓表面靜電潛像的電荷極性是相反的，反轉(zhuǎn)顯影中感光鼓與色粉電荷極性是相同的。


在了解曝光顯影在蝕刻加工中的作用前，我們要先了解一下什么是曝光顯影。簡(jiǎn)單來(lái)說(shuō)曝光顯影是蝕刻加工中確定需要被腐蝕和不被腐蝕部分的工藝，準(zhǔn)確的曝光顯影才能保證產(chǎn)品的精度。蝕刻后一般都要去掉保護(hù)部分的油墨，現(xiàn)在市面上用得比較多的是曝光顯影型感光藍(lán)油。感光藍(lán)油該如何清洗掉呢，一般都是采用氫氧化na水溶液，氫氧化na水溶液濃度大概是5%，溫度大約在50攝氏度，浸泡3-5分鐘，時(shí)間可根據(jù)具體情況加長(zhǎng)點(diǎn)。氫氧化na水溶液浸泡后，拿出板材，冷水沖洗，就可以很好地去掉感光蝕刻油墨了。

蝕刻速度決定了蝕刻加工周期的長(zhǎng)短，蝕刻速度越快，蝕刻加工周期越短，生產(chǎn)效率越高，反之生產(chǎn)效率較低。但是，蝕刻速度也并非越快越好：

對(duì)于整體蝕刻或成型的化學(xué)蝕刻加工及鏤空?qǐng)D文的蝕刻往往都是兩個(gè)面同時(shí)進(jìn)行。這種雙面蝕刻加工的速度比只在一個(gè)面進(jìn)行的蝕刻加工的速度快1倍，在金屬材料一定的情況下，影響蝕刻加工速度的因素很多，其中主要的是蝕刻劑的種類、濃度及蝕刻溫度。如果蝕刻劑的濃度及蝕刻條件一定，材料的特性及熱處理狀態(tài)對(duì)蝕刻加工的速度同樣有很大的影響。

金屬蝕刻在生活中的應(yīng)用用途：石油、化工、食品、制藥用精密過(guò)濾網(wǎng)、過(guò)濾板、過(guò)濾筒、過(guò)濾器；電子行業(yè)用金屬漏板、蓋板、平面引腳、引線框架、金屬基片；精密光學(xué)及機(jī)械平面零件、彈簧零件；摩擦片及其它凹凸型平面零件；金屬標(biāo)牌及圖案復(fù)雜的金屬裝飾板和精美工藝品。用于集成電路印刷，熒光屏電子格柵，準(zhǔn)確過(guò)濾，微電極元件，電子行業(yè)的平面引腳、引線框架、基片等。還可制造標(biāo)牌、商標(biāo)及精美工藝品。