鍍硬鉻的優(yōu)缺點(diǎn)

鍍硬鉻是鍍硬鉻工藝。是在各種基體表面鍍一層較厚的鉻鍍層，它的厚度一般在20μm以上，利用鉻的特性提高零件的硬度、耐磨、耐溫和耐蝕等性能。

鍍硬鉻的優(yōu)點(diǎn)：

優(yōu)點(diǎn)一：電鍍硬鉻層硬度高、耐磨、耐蝕并能長(zhǎng)期保持表面光亮且工藝相對(duì)比較簡(jiǎn)單，成本較低。

優(yōu)點(diǎn)二：表面光潔度好，不會(huì)生銹，一點(diǎn)銹斑都不會(huì)有;

優(yōu)點(diǎn)三：鍍的過(guò)程中原零件變形小，如果零件尺寸不到位，可以通過(guò)加幾絲鉻來(lái)達(dá)到尺寸(如12樓所說(shuō)的修補(bǔ)，當(dāng)優(yōu)點(diǎn)，表面比較美觀等等

長(zhǎng)期以來(lái)，鉻鍍層除了作為裝飾涂層外，還廣泛作為機(jī)械零部件的耐磨和耐蝕涂層。電鍍硬鉻鍍層技術(shù)常常用來(lái)修復(fù)破損部件。

鍍硬鉻鍍層粗糙有鉻瘤的原因及處理辦法

(1)陰陽(yáng)極間距太近

提高鍍層的均勻性，只有改變初次電流分布，即改變幾何因素來(lái)提高鍍層的均勻性

處理方法：控制陰極與陽(yáng)極間距離大于200mm，使工件的相對(duì)幾何尺寸縮小，保證陰極電力線分布均勻

(2)工件凸凹處未使用陰極保護(hù)

處理方法：采用陰極保護(hù)，合理布置陽(yáng)極

電鍍鉻鍍液應(yīng)用廣的鍍鉻液是以硫酸根作為催化劑的鍍液，鍍液中僅含有鉻酐和硫酸，成分簡(jiǎn)單，使用方便。鉻酐的濃度在150～450g/L之間變化。根據(jù)鉻酐濃度的不同，可分為高濃度（350～500g/L）、中濃度（150～250g/L）和低濃度（50～150g/L）鍍鉻液。低濃度的鍍鉻液電流，鉻層的硬度也高，但覆蓋能力較差，主要用于功能性電鍍，如鍍硬鉻、耐磨鉻等；高濃度鍍液穩(wěn)定，導(dǎo)電性好，電解時(shí)只需較低的電壓，覆蓋能力較稀溶液好，但電流效率較低，主要用于裝飾性鍍鉻及復(fù)雜件鍍鉻。除這鍍液外還有一些其它的鍍液，比如添加了加、氧化鎂、硫酸鍶、稀土金屬等的特殊鍍液，還有三價(jià)鉻等。