PVD是物理氣相沉積技術(shù)的簡稱，是指在真空條件下，采用物理的方法將材料（俗稱靶材或膜料）氣化成氣態(tài)分子、原子或離子，并將其沉積在工件形成具有某種特殊功能的薄膜的技術(shù)，常見的PVD沉積技術(shù)有：蒸發(fā)技術(shù)、濺射技術(shù)、電弧技術(shù)。

目前,提高NbFeB永磁材料耐腐蝕性能的方法有添加合金元素和外加防護性鍍層,但主要以添加防護性鍍層(金屬鍍層、有機物鍍層和復(fù)合鍍層)為主。防護性鍍層可以阻礙腐蝕相與基體之間的相互接觸從而減緩磁體的腐蝕。添加鍍層的方法有電鍍、化學(xué)鍍、物理氣相沉積等。由于灰塵對鍍膜效果會產(chǎn)生比較大的影響，因此為了避免在真空鍍膜設(shè)備中留下灰塵，應(yīng)該在使用中注意以上幾點來盡量避免，除此也要注意經(jīng)常清洗，避免灰塵越積越多。

真空鍍膜機主要指一類需要在較高真空度下進行的鍍膜，具體包括很多種類，包括真空離子蒸發(fā)，磁控濺射，MBE分子束外延，PLD激光濺射沉積等很多種。

在鍍膜領(lǐng)域，鍍膜后薄膜樣品的厚度是影響薄膜性能的一個重要因素。因此，當(dāng)評價薄膜樣品的性能時，需要檢測該薄膜樣品不同厚度下的性能。對于真空鍍膜的情形，這往往需要進行多次試樣的制備。

真空鍍膜設(shè)備膜層色澤不均：(1)底漆噴涂得不均勻。應(yīng)改進底漆的施涂方法。(2)膜層太薄。應(yīng)適當(dāng)提高濺射速度或延長濺射時間。(3)夾具設(shè)計不合理。應(yīng)改進夾具設(shè)計。(4)鍍件的幾何形狀太復(fù)雜。應(yīng)適當(dāng)提高鍍件的旋轉(zhuǎn)速度。真空鍍膜設(shè)備膜層發(fā)皺、龜裂：(1)底漆噴涂得太厚。應(yīng)控制在7—lOtan厚度范圍內(nèi)。(2)涂料的粘度太高。應(yīng)適當(dāng)降低。(3)蒸發(fā)速度太快。應(yīng)適當(dāng)減慢。(4)膜層太厚。應(yīng)適當(dāng)縮短濺射時間?，F(xiàn)在，系統(tǒng)的平均尺寸規(guī)格已經(jīng)在降低，而應(yīng)用小規(guī)格設(shè)備進行光學(xué)鍍膜的生產(chǎn)也已經(jīng)轉(zhuǎn)變成為純技術(shù)問題。(5)鍍件溫度太高。應(yīng)適當(dāng)縮短對鍍件的加溫時間。