真空鍍膜設(shè)備多弧離子鍍膜工藝不僅避免了傳統(tǒng)表面處理的不足，且各項(xiàng)技術(shù)指標(biāo)都優(yōu)于傳統(tǒng)工藝，在五金、機(jī)械、化工、模具、電子、儀器等領(lǐng)域有廣泛應(yīng)用。催化液和傳統(tǒng)處理工藝相比，在技術(shù)上有哪些？

1、多弧離子鍍膜不用電、降低了成本、成本僅為多弧離子鍍膜鎳的二分之一，真空鍍膜機(jī)多弧離子鍍膜鉻的三分之一，不銹鋼的四分之一，可反復(fù)利用，大大降低了成本。

2、多弧離子鍍膜易操作、工藝簡(jiǎn)單、把金屬基件浸入兌好的液體中“一泡即成”，需要再加工時(shí)不經(jīng)任何處理。

3、多弧離子鍍膜無(wú)污染，無(wú)毒無(wú)味，無(wú)三廢排放，屬國(guó)家環(huán)保產(chǎn)品技術(shù)。

4、多弧離子鍍膜好處理、使用方便；形狀復(fù)雜的金屬基件都能處理。

5、多弧離子鍍膜硬度大，硬度增強(qiáng)、催化液泡過(guò)的金屬基件硬度是多弧離子鍍膜工藝的幾倍。

6、多弧離子鍍膜不會(huì)生銹，催化液浸泡過(guò)的金屬基件已滲透表皮里面，不起皮、不脫落。

真空鍍膜機(jī)離子鍍是什么?

很多人聽(tīng)說(shuō)過(guò)離子真空鍍膜機(jī)，但是對(duì)于真空鍍膜機(jī)離子鍍了解甚少，離子鍍是一種鍍膜工藝中的一種，下面為大家詳細(xì)介紹一下：首先給大家它定義：蒸發(fā)物質(zhì)的分子被電子碰撞電離后以離子沉積在固體表面，稱為離子鍍。離子鍍是真空蒸發(fā)與陰極濺射技術(shù)的結(jié)合。

它的原理是：蒸發(fā)源接陽(yáng)極，工件接陰極，當(dāng)通以三至五千伏高壓直流電以后，蒸發(fā)源與工件之間產(chǎn)生輝光放電。由于真空罩內(nèi)充有惰性Ar氣，在放電電場(chǎng)作用下部分Ar氣被電離，從而在陰極工件周圍形成一等離子暗區(qū)。帶正電荷的Ar離子受陰極負(fù)高壓的吸引，猛烈地轟擊工件表面，致使工件表層粒子和臟物被轟濺拋出，從而使工件待鍍表面得到了充分的離子轟擊清洗。隨后，接通蒸發(fā)源交流電源，蒸發(fā)料粒子熔化蒸發(fā)，進(jìn)入輝光放電區(qū)并被電離。帶正電荷的蒸發(fā)料離子，在陰極吸引下，隨同Ar離子一同沖向工件，當(dāng)拋鍍于工件表面上的蒸發(fā)料離子超過(guò)濺失離子的數(shù)量時(shí)，則逐漸堆積形成一層牢固粘附于工件表面的鍍層。

它能分為四類：①磁控濺射離子鍍。②反應(yīng)離子鍍。③空心陰極放電離子鍍。④多弧離子鍍。

它的特點(diǎn)：鍍層附著性能好，對(duì)離子鍍后的試件作拉伸試驗(yàn)表明，一直拉到快要斷裂時(shí)，鍍層仍隨基體金屬一起塑性延伸，無(wú)起皮或剝落現(xiàn)象發(fā)生；繞鍍能力強(qiáng)，因此這種方法非常適合于鍍復(fù)零件上的內(nèi)孔、凹槽和窄縫，等其他方法難鍍的部位；鍍層質(zhì)量好，離子真空鍍膜機(jī)鍍膜的鍍層組織致密、無(wú)孔、無(wú)氣泡、厚度均勻；清洗過(guò)程簡(jiǎn)化。

光學(xué)鍍膜機(jī)電子槍打火問(wèn)題是怎么引起的,該如何減少次數(shù)呢?

很多人對(duì)光學(xué)鍍膜機(jī)電子槍打火問(wèn)題很疑惑，不知道是什么原因產(chǎn)生的，也不知道該如何減少這種情況的發(fā)生，今天至成真空小編為大家講解一下光學(xué)鍍膜機(jī)電子槍打火問(wèn)題是怎么引起的？

電子槍在蒸鍍時(shí)，由于電子束中的電子與氣體分子和蒸發(fā)材料的蒸汽發(fā)生碰撞產(chǎn)生的離子轟擊帶負(fù)電高壓電極及其引線，即產(chǎn)生打火。另外，若這些帶負(fù)高壓電的部分有塵粒等雜物，會(huì)使該處電場(chǎng)集中了容易打火。故電子束蒸鍍?cè)O(shè)備的高壓電源都附有高壓自動(dòng)滅弧復(fù)位裝置，在打火非常嚴(yán)重時(shí)才會(huì)自動(dòng)切斷高壓，然后又自動(dòng)恢復(fù)，切斷與恢復(fù)的時(shí)間愈短，愈不會(huì)影響蒸鍍工藝。

那么，在安裝和使用的過(guò)程中，該如何才能減少打火次數(shù)。首先、高壓引線應(yīng)盡量短，并用接地良好的不銹鋼板屏蔽住，不要追求美觀把引線彎來(lái)彎去。然后，槍頭金屬件和引線定期用細(xì)砂紙打光，然后清洗干凈。上螺釘?shù)穆菘锥ㄆ谟媒z錐攻螺孔，以便螺釘上下方便并保證壓的很緊。接著，所有陶瓷件污染后應(yīng)予更換。電子槍體應(yīng)可靠接地。對(duì)放氣量大的材料應(yīng)充分預(yù)熱以徹底除氣。蒸鍍時(shí)功率要合適，不可過(guò)高造成材料飛濺。高壓饋線與高壓絕緣子金屬件的接線一定要可靠并經(jīng)常檢查，以免增大接觸電阻造成發(fā)熱而燒壞。蒸發(fā)檔板應(yīng)高于蒸發(fā)源70mm.1

不同類型鍍膜機(jī)的適用范圍是怎樣的呢？

磁控濺射鍍膜設(shè)備：應(yīng)用于信息存儲(chǔ)領(lǐng)域，如磁信息存儲(chǔ)、磁光信息存儲(chǔ)等。磁控濺射鍍膜機(jī)：應(yīng)用于防護(hù)涂層，如飛機(jī)發(fā)動(dòng)機(jī)的葉片、汽車鋼板、散熱片等。磁控濺射鍍Al膜生產(chǎn)線：應(yīng)用于太陽(yáng)能利用領(lǐng)域，如太陽(yáng)能集熱管、太陽(yáng)能電池等。光學(xué)鍍膜設(shè)備：應(yīng)用于光學(xué)薄膜領(lǐng)域，如增透膜、高反膜、截止濾光片、防偽膜等。

AZO透明導(dǎo)電膜磁控濺射鍍膜生產(chǎn)線：應(yīng)用于信息顯示領(lǐng)域，如液晶屏、等離子屏等。觸摸屏連續(xù)式鍍膜生產(chǎn)線：應(yīng)用于觸摸屏領(lǐng)域，如手機(jī)、電腦、MP4等數(shù)碼產(chǎn)品屏幕等。磁控中頻多弧離子鍍膜設(shè)備：應(yīng)用于硬質(zhì)涂層，如切削工具、模具和耐磨耐腐蝕零件等。PECVD磁控生產(chǎn)線：應(yīng)用于集成電路制造，如薄膜電阻器、薄膜電容器、薄膜溫度傳感器等。蒸發(fā)式真空鍍膜設(shè)備：應(yīng)用于在裝飾飾品上，如手機(jī)殼、表殼、眼鏡架、五金、小飾品等鍍膜。低輻射玻璃鍍膜生產(chǎn)線：應(yīng)用于建筑玻璃方面，如陽(yáng)光控制膜、低輻射玻璃、防霧防露和自清潔玻璃等。抗反射導(dǎo)電膜連續(xù)磁控濺射生產(chǎn)線：應(yīng)用于電子產(chǎn)品領(lǐng)域，如液晶顯示器、液晶電視、MP4、車載顯示、手機(jī)顯示、數(shù)碼相機(jī)和掌聲電腦等。