低輻射鍍膜玻璃又稱低輻射玻璃、“Low-E”玻璃，是一種對(duì)波長(zhǎng)范圍4.5~25μm的遠(yuǎn)紅外線有較高反射比的鍍膜玻璃（高透型Low-E）。低輻射鍍膜玻璃還能夠復(fù)合陽(yáng)光操控功用，稱為陽(yáng)光操控低輻射玻璃（遮陽(yáng)型Low-E）。

低輻射鍍膜玻璃（高透型Low-E）適用于高緯寒區(qū)域，夏熱冬冷區(qū)域宜選用陽(yáng)光操控低輻射鍍膜玻璃（遮陽(yáng)型Low-E）。

應(yīng)用多層膜干涉原理的薄膜防偽技術(shù)主要有兩種：一種是“整膜”的薄膜防偽技術(shù)；另一種是“碎膜”防偽技術(shù)。整膜和碎膜是指膜的形態(tài)而言。整膜是指一般意義上的防偽膜系；碎膜是指對(duì)反射式防偽膜系進(jìn)行破碎，然后將碎片加入油墨中制成防偽油墨，再用這種防偽油墨進(jìn)行防偽印刷。

防偽膜種類很多，從使用方法可分為反射式和透射式；從膜系附著方式可以分為直接鍍膜式、間接鍍膜轉(zhuǎn)移式或間接鍍膜剪貼式。

真空鍍膜(包括物理氣相沉積和化學(xué)氣相沉積等)就是通過各種手段把被鍍物質(zhì)轉(zhuǎn)換為氣態(tài)，在帶鋼表面形成薄膜鍍層。理論上所有的金屬、非金屬、有機(jī)物都能通過這個(gè)方式形成鍍層。

這種技術(shù)可以優(yōu)化組合形成多工藝、具有很高靈活性的復(fù)合鍍膜工藝，適應(yīng)各種性能要求。因此，這種新技術(shù)的研發(fā)和實(shí)施將是鋼鐵企業(yè)表面技術(shù)和產(chǎn)品應(yīng)對(duì)挑戰(zhàn)的超佳戰(zhàn)略。

與鏈條式傳送機(jī)構(gòu)相比，該機(jī)構(gòu)為剛性傳送，不存在齒合不準(zhǔn)確問題同時(shí)，由于需要的過渡空間小，可以節(jié)約真空室之間閥門的開關(guān)時(shí)間、進(jìn)一步減少不同真空室之間的氣氛互串。因而極大的提高了鍍膜工藝穩(wěn)定可靠性、成品率，降低能耗和成本等。

隨著鍍膜技術(shù)的發(fā)展，各類真空鍍膜機(jī)也逐漸出現(xiàn)，不管是哪種真空鍍膜機(jī)，薄膜的均勻性都會(huì)受到一些因素的影響。現(xiàn)在，我們就以磁濺射真空鍍膜機(jī)來分析成膜不均勻的因素。