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光刻膠市場
全球光刻膠市場擴增,對光刻膠的總需求不斷提升。據(jù)估計,2015年國際光刻膠市場達73.6億美元,其中PCB光刻膠占比24.5%,LCD光刻膠占26.6%,半導(dǎo)體光刻膠占比24.1%。通過在較高溫度下進行烘培,可以使溶劑從光刻膠中揮發(fā)出來(前烘后溶劑含量降至5%左右),從而降低了灰塵的沾污。2010年到2015年期間,國際光刻膠市場年復(fù)合增長率約為5.8%;據(jù)中國產(chǎn)業(yè)信息網(wǎng)數(shù)據(jù),2015年,PCB光刻膠、LCD光刻膠和半導(dǎo)體光刻膠的國際市場增速均在5%左右。在下游產(chǎn)業(yè)的帶動下,江瀚咨詢預(yù)計國際光刻膠市場規(guī)模在2022年可能突破100億美元。
芯片光刻的流程詳解(二)
所謂光刻,根據(jù)維基百科的定義,這是半導(dǎo)體器件制造工藝中的一個重要步驟,該步驟利用曝光和顯影在光刻膠層上刻畫幾何圖形結(jié)構(gòu),然后通過刻蝕工藝將光掩模上的圖形轉(zhuǎn)移到所在襯底上。光刻膠去除半導(dǎo)體器件制造技術(shù)中,通常利用光刻工藝將掩膜板上的掩膜圖形轉(zhuǎn)移到半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)表面的光刻膠層中。這里所說的襯底不僅包含硅晶圓,還可以是其他金屬層、介質(zhì)層,例如玻璃、SOS中的藍寶石。
光刻的基本原理是利用光致抗蝕劑(或稱光刻膠)感光后因光化學(xué)反應(yīng)而形成耐蝕性的特點,將掩模板上的圖形刻制到被加工表面上。
NR77-20000PYNR9 3000P光刻膠報價
光刻膠存儲條件及操作防護
光刻膠是一種可燃液體,儲存條件應(yīng)符合對應(yīng)的法規(guī),不要與強氧化劑混合,存放在通風良好的地方,保持容器密閉,避免吸入蒸汽或霧氣,避免接觸眼睛、皮膚或衣服,操作后徹底清洗。
個人防護
眼睛:佩戴化學(xué)飛濺護目鏡。
皮膚:戴上適當?shù)姆雷o手套防止皮膚暴露。
服裝:穿戴合適的防護服防止皮膚暴露。
呼吸器:無論何時在工作環(huán)境下呼吸保護必須遵循中國職業(yè)安全健康管理局標準的規(guī)定和ANSI美國國家標準學(xué)會Z88.2的相關(guān)要求,或必須執(zhí)行歐洲呼吸防護EN 149的標準。
NR77-20000PMSDS
光刻膠運輸標識及注意事項
標簽上標明的意思
R標識
R10 YI燃。
S標識
S16 遠離火源-禁止吸煙。
S 24 避免接觸皮膚。
S 33對靜電放電采取預(yù)防措施。
S 9 將容器保持在通風良好的地方。
水生毒性
通過自然環(huán)境中的化學(xué)、光化學(xué)和微生物降解來分解。一般不通過水解降解。300 ppm對水生生物是安全的。鹵化反應(yīng)可能發(fā)生在水環(huán)境中。