PVD真空鍍膜設(shè)備蒸發(fā)系統(tǒng)工作方式

PVD真空鍍膜設(shè)備蒸發(fā)系統(tǒng)主要指成膜裝置部分，PVD鍍膜機(jī)的成膜裝置很多的，PVD鍍膜有電阻加熱、射頻濺射、離子鍍等多種方式。PVD鍍膜電阻蒸發(fā)根據(jù)其結(jié)構(gòu)和工作原理是目前為止應(yīng)用多的，PVD鍍膜廣泛的蒸發(fā)方式，PVD鍍膜也是應(yīng)用時間長的蒸發(fā)方式。

下面介紹PVD鍍膜電阻加熱和電子槍蒸發(fā)的方式：

PVD鍍膜將鎢片做成船狀，然后安裝在兩個電極中間，再熱傳導(dǎo)給PVD鍍膜材料，當(dāng)鎢舟的熱量高于PVD鍍膜材料熔點的時候，材料就升華或者蒸發(fā)了，PVD鍍膜由于操作方便，結(jié)構(gòu)簡單，成本低廉。PVD鍍膜電子槍蒸發(fā)是到目前為止應(yīng)用多的一種蒸發(fā)方式，PVD鍍膜可以蒸發(fā)任何一種PVD鍍膜料。

將鍍膜材料放在坩堝里面，PVD鍍膜將蒸發(fā)源制作成燈絲形狀，PVD鍍膜由于燈絲的材料是鎢，形成了一股電子束，PVD鍍膜由于電子束溫度非常高，PVD鍍膜可以熔化任何鍍膜藥材凝結(jié)下來。

至成真空十多年來專業(yè)從事各種真空鍍膜應(yīng)用設(shè)備制造，多年來致力于研發(fā)和生產(chǎn)真空鍍膜機(jī)，以新技術(shù)不斷制造出滿足市場需要的真空電鍍設(shè)備，為客戶提供定制化的工藝解決方案和機(jī)器。

多弧離子真空鍍膜機(jī)工藝如何運(yùn)用到刀具行業(yè)

很多人對多弧離子真空鍍膜機(jī)其實并不太了解，更不了解鍍膜設(shè)備的工藝如何運(yùn)用到刀具行業(yè)，很多客戶都有這樣的疑惑，也經(jīng)常會問我們這方面的問題，特別是對真空設(shè)備的愛好者，今天至成真空小編為大家詳解介紹一下多弧離子真空鍍膜機(jī)工藝如何運(yùn)用到刀具行業(yè)。

為了滿足鍍膜制和各種多層薄膜及復(fù)合化合物薄膜的要求，多功能多弧離子鍍膜已成為目前研究發(fā)展的方向。多弧離子鍍膜設(shè)備采用電弧放電的方法，在固體的陰極靶材上直接蒸發(fā)金屬，蒸發(fā)物是從陰極弧光輝點放出的陰極物質(zhì)的離子，從而在基材表面沉積成為薄膜的方法。多弧離子鍍膜采用孿生靶的先進(jìn)技術(shù)，克服直流濺射固有的打火等不良弊病，使鍍件的耐蝕性能又有所提高和改善。

多弧離子鍍膜的中心安裝柱狀多弧靶，靶材為鈦或鋯。它不但能保持多弧技術(shù)離化率高、沉積速率高的特點，還能有效地降低平面多弧靶沉積過程中很難避免的“液滴”的缺陷，從而可以制備出低孔隙率的金屬薄膜或化合特薄膜；在周邊安裝了孿生平面磁控靶，靶材為鋁或硅；中外，在周邊安裝多個平面多弧蒸發(fā)源，靶材為鉻或鎳，可以鍍制多層金屬膜和多層復(fù)合膜。復(fù)合式離子鍍膜設(shè)備由于具有多種不同形式鍍膜裝置及不同材質(zhì)的蒸發(fā)源及發(fā)射靶，它們既可以獨立地分別工作又可以同時工作，既能制備純金屬膜又能制備金屬化合物膜或復(fù)合材料膜；既能制備單層薄膜又能制備多層復(fù)合膜，用途極其廣泛。

因此現(xiàn)在市面上有多功能離子真空鍍膜機(jī)的出現(xiàn)，通過大量試驗及工業(yè)化應(yīng)用，本項目得出以下結(jié)論：

（1）所設(shè)計的多種鍍膜技術(shù)復(fù)合的多功能離子鍍膜機(jī)是成功的。

（2）該設(shè)備可大面積低成本制備表面光潔致密、平滑細(xì)膩，性能優(yōu)異的類金剛石膜及金屬氮（或碳）化物多元多層膜。

（3）采用特殊的多層梯度中間過渡層及摻雜技術(shù)，降低了內(nèi)應(yīng)力，提高了膜/基結(jié)合力，有利于膜層生長（厚達(dá)6mm）。

（4）所制備DLC膜具有優(yōu)異的綜合性能：硬度>20GPa（高達(dá)37.25GPa），厚度可調(diào)（厚達(dá)6mm），膜/基結(jié)合力>50N（高達(dá)100N），摩擦系數(shù)<0.2，膜層光潔細(xì)膩。

（5）所開發(fā)出的基體/Cr/CrN/CrTiAlN/CrTiAlCN/CrTiC/DLC多元多層耐磨耐熱自潤滑涂層具有良好的綜合性能：硬度高達(dá)28.7GPa，厚度1-4mm可調(diào)，膜/基結(jié)合力大于70N，摩擦系數(shù)小于0.2。

（6）所研制的耐磨減摩膜已成功應(yīng)用于多種高精密工模具以及精密關(guān)鍵部件上。應(yīng)用結(jié)果表明：膜層的表面強(qiáng)化效果顯著，可大幅度提高產(chǎn)品質(zhì)量及使用壽命。