專利調查戰(zhàn)略

　　專利調查戰(zhàn)略是指貫穿于技術創(chuàng)新全過程，根據在創(chuàng)新過程中的不同需要包括技術動向調查、專利性調查、公知情況調查、法律狀況調查、同族專利調查、監(jiān)視性調查。

??專利調查戰(zhàn)略是一項基礎性戰(zhàn)略，專利調查包括下列6種。

??(1)技術動向調查

??這是指在廣泛搜集過去及新近出現的技術信息的基礎上，分析當代技術水平并預測今后技術發(fā)展動向而進行的調查。主要供研究、開發(fā)新產品新技術參考。例如，通過對一項技術專利申請量逐年變化的情況的分析，便可以對該項技術是“朝陽技術”還是“夕陽技術”作出初步判斷，并用于指導制定研究開發(fā)策略，選擇研究開發(fā)課題。例如，人類的照明在原始狀態(tài)只能是月光，后來發(fā)明了蠟燭。在發(fā)明電燈之后，人類逐漸進入電器時代。而照明用電燈也逐漸由鎢燈到鈉燈、熒光燈和真空燈等。隨著照明燈的功率增大，燈泡的亮度也增大。在電燈以后的技術均在專利文獻中有相關的記錄。通過對專利文獻的分析，可以預測出更新的照明措施應該是功率更大，照明效率更高的產品。

??(2)專利性調查

??這是在專利申請前為判斷該發(fā)明創(chuàng)造有無專利性而進行的調查。這里講的有無專利性，對發(fā)明和實用新型而言，是指有無新穎性、創(chuàng)造性、實用性;對外觀設計而言，是指有無新穎性和工業(yè)實用性。不同的國家的專利制度不完全相同，我國的實用新型和外觀設計專利的審查是初步審查制，即沒有對實用新型和外觀設計的授權實質性條件進行審查，只要滿足格式審查條件和明顯缺陷審查，即可授權。因此對此類專利要根據相關的專利法律要求，進一步判斷是否滿足專利授權性條件。如果不滿足授權性條件，企業(yè)即可通過無效程序將該專利無效。同時，如果該專利即將到期且該產品在市場上還有大量的需求，企業(yè)就可以在專利無效前進行準備，待專利無效后即可將產品投放市場。

??(3)公知性情況調查

??如果企業(yè)已經決定執(zhí)行的某項產品的研發(fā)方案，就需要通過檢索或者查閱相關的文獻來確認該方案的可行性。這是指為判斷已公開或公告的發(fā)明創(chuàng)造專利申請，或已獲得專利權的發(fā)明創(chuàng)造的專利性而進行的一種調查。這種調查，對新產品新技術的研究開發(fā)、回避侵權行為和專利權無效宣告請求等，是必不可少的。

??(4)法律狀態(tài)調查

??所謂法律狀態(tài)，是指某項特定技術是否是專利技術、是何種專利技術、是否是有效專利、專利權的期限還有多長以及特定技術和特定專利之間的關系等情況。這種調查，對于技術和新產品進出口、技術價值評估十分重要。

??(5)同族專利調查

??這是指特定國家的特定專利是否在其他國家取得專利而進行的一項調查。這種調查，對該技術商業(yè)價值的評估、技術和產品的進出口十分重要。

??(6)監(jiān)視調查

??這里講的“監(jiān)視”，一般指對特定競爭對手專利申請動向和取得專利權的情況的監(jiān)視，也指對特定的引人注目技術的專利發(fā)展過程的監(jiān)視。這兩種監(jiān)視，常?？梢韵嗷ソY合或交替使用。

選擇發(fā)明

　　選擇發(fā)明是指從一般性公開的較大范圍選出一個未明確提到的小范圍或個體，與公知的較大范圍相比，所選出的小范圍或個體具有特別突出的作用、性能或效果，這樣的發(fā)明我們稱之為選擇發(fā)明。

??選擇發(fā)明的新穎性

??選擇發(fā)明與其它發(fā)明不同，它不是在現有技術的基礎上增加了新的特征或更換了不同的特征，從而很容易地與現有技術相區(qū)別。它是在現有技術的一般性公開的已知范圍內選擇出未明確提到的小范圍或個體方案，它落入現有技術的已知范圍內，但范圍及效果又與現有技術不同。因此，與其它類型的發(fā)明相比，選擇發(fā)明的新穎性判斷一直是審查及代理過程中比較難處理的問題之一。在司法實踐中，各國的做法有很大差異。在學術領域，對此問題也一直是眾說紛紜，很難統一。

專利維持

　　專利維持是指在專利法定保護期內，專利權人依法向專利行政部門繳納規(guī)定數量維持費使得專利繼續(xù)有效的過程。

??專利維持時間是指專利從申請日或者授權之日至無效、終止、撤銷或屆滿之日的實際時間。

??不同國家或地區(qū)專利法對專利維持時間起算時間不同，有的是從申請日算起，有的是從授權日算起，我國專利維持時間是從專利申請日開始起算。本文所說專利維持時間，在沒有明確說明時，均指專利的整體維持時間，即宏觀數據，不是指個別專利的維持時間。

??專利維持時間的作用：

??(1)專利維持時間是評價專利維持制度優(yōu)劣和反映專利制度運行績效的關鍵指標之一。

??(2)專利維持時間反映創(chuàng)新主體的專利運用和管理能力。

??(3)專利維持時間反映一個國家或者地區(qū)的技術創(chuàng)新能力。

專利規(guī)避最初的目的是從法律的角度來繞開某項專利的保護范圍以避免專利權人進行侵權訴訟，專利規(guī)避是企業(yè)進行市場競爭的合法行為pJ。因此首先對專利規(guī)避設計的實施方法做出回應的多源于法律學者，并隨著專利糾紛案件的不斷積累，總結與歸納出了相應的組件規(guī)避原則，主要是從刪除、替換、更改以及語義描述的變化等方面進行專利規(guī)避。實際應用中專利規(guī)避設計可遵循的三點原則：

??減少組件數量以滿足全i面覆蓋原則;

??使用替代的方法使被告主體不同于權利要求中指出的技術以防止字面侵權;

??從方法/功能/結果上對構成要件進行實質性改變，以避免侵犯等同原則。

??專利規(guī)避設計原則是從侵權判斷的角度進行分析，根據權利要求書分析專利的必要技術特征，對其進行刪減和替代， 以減少侵權的可能性。專利規(guī)避設計原則是宏觀層面上的指導方針，對設計人員來說，需要具體可以實施的過程來詳細指導如何在現有專利技術基礎上進行重組和替代，并且開發(fā)出新的技術方案繞開現有專利的保護范圍。功能裁剪作為有效的分析工具能夠指導設計人員進行技術分析，并結合專利規(guī)避設計原則選擇合理的技術進行刪除或替代，從根本上突破現有專利的技術壟斷。