真空法氦質(zhì)譜檢漏

采用真空法檢漏時(shí)，需要利用輔助真空泵或檢漏儀對(duì)被檢產(chǎn)品內(nèi)部密封室抽真空，采用氦罩或噴吹的方法在被檢產(chǎn)品外表面施氦氣，當(dāng)被檢產(chǎn)品表面有漏孔時(shí)，氦氣就會(huì)通過(guò)漏孔進(jìn)入被檢產(chǎn)品內(nèi)部，再進(jìn)入氦質(zhì)譜檢漏儀，從而實(shí)現(xiàn)被檢產(chǎn)品泄漏量測(cè)量。按照施漏氣體方法的不同，又可以將真空法分為真空噴吹法和真空氦罩法。其中真空噴吹法采用噴槍的方式向被檢產(chǎn)品外表面噴吹氦氣，可以實(shí)現(xiàn)漏孔的準(zhǔn)確定位; 真空氦罩法采用有一定密閉功能的氦罩將被檢產(chǎn)品全部罩起來(lái)，在罩內(nèi)充滿一定濃度的氦氣，可以實(shí)現(xiàn)被檢產(chǎn)品總漏率的測(cè)量。4、如果探頭本身也臟，可浸入像酒精等溫和清洗劑幾秒鐘，然后用壓縮空氣或工業(yè)毛巾清潔，嚴(yán)禁用像礦物油等溶劑，這樣易降低儀器靈敏度。

科創(chuàng)真空擁有先進(jìn)的技術(shù)，我們都以質(zhì)量為本，信譽(yù)高，我們竭誠(chéng)歡迎廣大的顧客來(lái)公司洽談業(yè)務(wù)。如果您對(duì)氦檢漏感興趣，歡迎點(diǎn)擊左右兩側(cè)的在線客服，或撥打咨詢電話。

氦質(zhì)譜檢漏儀對(duì)示漏氣體的要求及選擇

氦質(zhì)譜檢漏儀廠家的氦質(zhì)譜檢漏儀對(duì)示漏氣體的要求及選擇一般應(yīng)從以下幾方面考慮：

(1)無(wú)害，不能對(duì)人體或環(huán)境造成傷害;

(2)質(zhì)量輕，惰性氣體，穿透能力強(qiáng)，能穿透微小細(xì)縫;

(3)化學(xué)性質(zhì)穩(wěn)定，不會(huì)引起化學(xué)反應(yīng)和易1燃易1爆;

(4)在空氣環(huán)境中含量盡可能少且組分基本恒定的氣體，滿足檢漏靈敏度方面的要求，減少本底干擾檢測(cè)的準(zhǔn)確性。

氫和氦都是比較理想的示蹤氣體，空氣中的含量少，質(zhì)量輕，運(yùn)動(dòng)速度快，分子直徑小，同等條件下，直線運(yùn)動(dòng)距離長(zhǎng)。在實(shí)際使用中，也相對(duì)比較容易獲取，可以大量使用。由于He具有無(wú)色、無(wú)臭、無(wú)活性、不可燃的特性，因此一般檢漏都采用氦氣(He)作為示漏氣體，但也有用氫氣(H)作為示漏氣體的，考慮到它的化學(xué)性質(zhì)及危險(xiǎn)性，在應(yīng)用中較少使用，所以實(shí)際大部分檢漏使用的都是氦氣。熱管檢漏客戶案例：某電子股份公司，是世界IT產(chǎn)業(yè)500強(qiáng)之一，分公司及營(yíng)業(yè)處遍及美國(guó)、日本、歐洲、蘇格蘭、新加坡等地，全球員工近90000人。

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氦質(zhì)譜檢漏儀的主要及時(shí)指標(biāo)

北京科創(chuàng)鼎新真空技術(shù)有限公司（簡(jiǎn)稱：科創(chuàng)真空）是從事真空系統(tǒng)設(shè)計(jì)、制造及真空技術(shù)服務(wù)的專業(yè)化公司。公司致力于真空氦檢漏設(shè)備、非標(biāo)真空系統(tǒng)設(shè)計(jì)開發(fā)與制造。

1. 較小可檢漏率：5×10-12Pa·m3/s

2. 漏率顯示范圍：1×10-3—1×10-12Pa·m3/s

3. 啟動(dòng)時(shí)間：≤5min

4. 響應(yīng)時(shí)間：≤1s

5. 檢漏口的較高壓力：1500Pa

6. 電源要求：220v，50Hz，單相，10A

7. 工作環(huán)境：5-35℃

8. 相對(duì)濕度：≤80%

9. 外形尺寸：550（w）×400（D）×780（H）

10. 重量：64kg

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