蒸發(fā)真空鍍膜機(jī)的原理及性能,你了解多少?

今天至成鍍膜機(jī)真空小編要為大家講的是蒸發(fā)真空鍍膜機(jī)的原理和性能，前一段時(shí)間還有一個(gè)新人問我這方面問題，今天我就把我的知道的闡述出來，和大家一起成長和提升。

在真空中制備膜層，包括鍍制晶態(tài)的金屬、半導(dǎo)體、絕緣體等單質(zhì)或化合物膜。雖然化學(xué)汽相沉積也采用減壓、低壓或等離子體等真空手段，但一般真空鍍膜是指用物理的方法沉積薄膜。真空鍍膜有三種形式，即蒸發(fā)鍍膜、濺射鍍膜和離子鍍。

通過加熱蒸發(fā)某種物質(zhì)使其沉積在固體表面，稱為蒸發(fā)鍍膜。這種方法早由M.法拉第于1857年提出，現(xiàn)代已成為常用鍍膜技術(shù)之一。蒸發(fā)鍍膜與其他真空鍍膜方法相比，具有較高的沉積速率，可鍍制單質(zhì)和不易熱分解的化合物膜。用作真空蒸發(fā)鍍的裝置稱為蒸發(fā)鍍膜機(jī)。

鍍膜前后的效果有哪些區(qū)別

沒有做涂層時(shí)的問題：(1)鏡面很容易亂花，甚至做表面清潔時(shí)用柔軟的紙巾擦拭也會(huì)亂花(2)使用不到半個(gè)月鏡面就亂花或變霧(3)反復(fù)多次拆卸拋光，不僅成本高昂，而且嚴(yán)重影響生產(chǎn)效率，甚至無法正常交貨給客人

通過鏡面塑膠模具涂層鍍膜設(shè)備鍍膜后：(1)鏡面完全沒有受損：光亮度沒有下降、沒有產(chǎn)生小白點(diǎn)或其它花紋等(2)由于涂層后表面硬度的提高，在做模具保養(yǎng)時(shí)，用紙巾擦拭，甚至手碰到模具，都不用擔(dān)心表面亂花(3)使用時(shí)間提高到半年，甚至1年以上(4)在涂層磨損后，仍然可以褪去涂層，再拋光重鍍再使用(5)無論生產(chǎn)效率，還是成本效益，都取得了很好的收益

詳解手機(jī)行業(yè)的PVD鍍膜技術(shù)

詳解手機(jī)行業(yè)的PVD鍍膜技術(shù) PVD是英文PhysicalVaporDeition的縮寫，中文意思是“物理氣相沉積”，是指在真空條件下，用物理的方法使材料沉積在被鍍工件上的薄膜制備技術(shù)。 PVD(物理氣相沉積)鍍膜技術(shù)主要分為三類，真空蒸發(fā)鍍膜、真空濺射鍍和真空離子鍍膜。對(duì)應(yīng)于PVD技術(shù)的三個(gè)分類，相應(yīng)的真空鍍膜設(shè)備也就有真空蒸發(fā)鍍膜機(jī)、真空濺射鍍膜機(jī)和真空離子鍍膜機(jī)這三種。近十多年來，真空離子鍍膜技術(shù)的發(fā)展是快的，它已經(jīng)成為當(dāng)今先進(jìn)的表面處理方式之一。我們通常所說的PVD鍍膜，指的就是真空離子鍍膜;通常所說的PVD鍍膜機(jī)，指的也就是真空離子鍍膜機(jī)。 PVD鍍膜(離子鍍膜)技術(shù)，其具體原理是在真空條件下，采用低電壓、大電流的電弧放電技術(shù)，利用氣體放電使靶材蒸發(fā)并使被蒸發(fā)物質(zhì)與氣體都發(fā)生電離，利用電場的加速作用，使被蒸發(fā)物質(zhì)及其反應(yīng)產(chǎn)物沉積在工件上。

真空鍍膜設(shè)備離子鍍膜上的創(chuàng)新方法

真空鍍膜設(shè)備離子鍍膜上的創(chuàng)新方法 真空鍍膜設(shè)備多弧離子鍍膜上的創(chuàng)新方法，所謂多弧離子鍍膜就是置待鍍材料和被鍍基板于室內(nèi)，真空鍍膜機(jī)多弧離子鍍膜采用一定方法加熱待鍍材料，使之蒸發(fā)或升華，并飛行濺射到被鍍基板表面凝聚成膜的工藝。 多弧離子鍍膜的方法，在條件下成膜有很多優(yōu)點(diǎn)，可減少蒸發(fā)材料的原子、分子在飛向基板過程中于分子的碰撞，減少氣體中的活性分子和蒸發(fā)源材料間的化學(xué)反應(yīng)（如氧化等），以及減少成膜過程中氣體分子進(jìn)入薄膜中成為雜質(zhì)的量，從而提供膜層的致密度、純度、沉積速率和與基板的附著力。