真空鍍膜是真空應(yīng)用領(lǐng)域的一個(gè)重要方面，它是以真空技術(shù)為基礎(chǔ)，利用物理或化學(xué)方法，并吸收電子束、分子束、離子束、等離子束、射頻和磁控等一系列新技術(shù)，為科學(xué)研究和實(shí)際生產(chǎn)提供薄膜制備的一種新工藝。簡(jiǎn)單地說(shuō)，在真空中把金屬、合金或化合物進(jìn)行蒸發(fā)或?yàn)R射，使其在被涂覆的物體（稱基板、基片或基體）上凝固并沉積的方法。

真空鍍膜的物理過(guò)程

PVD（物理氣相沉積技術(shù)）的基本原理可分為三個(gè)工藝步驟：

（1）鍍料的氣化：即鍍料的蒸發(fā)、升華或被濺射從而形成氣化源

（2）鍍料粒子（（原子、分子或離子）的遷移：由氣化源供出原子、分子或離子經(jīng)過(guò)碰撞，產(chǎn)生多種反應(yīng)。

（3）鍍料粒子在基片表面的沉積

?真空鍍膜廠家手機(jī)殼真空鍍膜

真空鍍膜廠家真空電鍍?cè)O(shè)備的監(jiān)控方法

隨著基礎(chǔ)工業(yè)及高新技術(shù)產(chǎn)品的發(fā)展，對(duì)表面改性及涂層技術(shù)的需求向縱深延伸，國(guó)內(nèi)外在該領(lǐng)域與相關(guān)學(xué)科相互局勢(shì)下，

表面改性與涂層工藝模擬和性能預(yù)測(cè)等方面都有著突破的進(jìn)展。以下就和大家介紹一下真空電鍍?cè)O(shè)備的監(jiān)控方法：

目視監(jiān)控：使用眼睛監(jiān)控，因?yàn)楸∧ぴ谏L(zhǎng)的過(guò)程中，由于干涉現(xiàn)象會(huì)有顏色變化，我們就是根據(jù)顏色變化來(lái)控制膜厚度的，此種方式有誤差，所以不是很準(zhǔn)確，需要依靠經(jīng)驗(yàn)。

在真空中制備膜層，包括鍍制晶態(tài)的金屬、半導(dǎo)體、絕緣體等單質(zhì)或化合物膜。雖然化學(xué)汽相沉積也采用減壓、低壓或等離子體等真空手段，但一般真空鍍膜是指用物理的方法沉積薄膜。真空鍍膜有三種形式，即蒸發(fā)鍍膜、濺射鍍膜和離子鍍。

　　真空鍍膜技術(shù)初現(xiàn)于20世紀(jì)30年，四五十年開(kāi)始出現(xiàn)工業(yè)應(yīng)用，工業(yè)化大規(guī)模生產(chǎn)開(kāi)始于20世紀(jì)80年代，在電子、宇航、包裝、裝潢、燙金印刷等工業(yè)中取得廣泛的應(yīng)用。