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發(fā)布時(shí)間:2020-12-02 08:26  









光學(xué)薄膜的定義


由薄的分層介質(zhì)構(gòu)成的,通過(guò)界面?zhèn)鞑ス馐活?lèi)光學(xué)介質(zhì)材料,光學(xué)薄膜的應(yīng)用始于20世紀(jì)30年代,光學(xué)薄膜已經(jīng)廣泛用于光學(xué)和光電子技術(shù)領(lǐng)域,制造各種光學(xué)儀器。制備條要求件高而精。

光學(xué)薄膜的定義是:涉及光在傳播路徑過(guò)程中,附著在光學(xué)器件表面的厚度薄而均勻的介質(zhì)膜層,通過(guò)分層介質(zhì)膜層時(shí)的反射、透(折)射和偏振等特性,以達(dá)到我們想要的在某一或是多個(gè)波段范圍內(nèi)的光的全部透過(guò)或光的全部反射或偏振分離等各特殊形態(tài)的光。

光學(xué)薄膜在我們的生活中無(wú)處不在,從精密及光學(xué)設(shè)備、顯示器設(shè)備到日常生活中的光學(xué)薄膜應(yīng)用;比方說(shuō),平時(shí)戴的眼鏡、數(shù)碼相機(jī)、各式家電用品,或者是防偽技術(shù),皆能被稱(chēng)之為光學(xué)薄膜技術(shù)應(yīng)用之延伸。倘若沒(méi)有光學(xué)薄膜技術(shù)作為發(fā)展基礎(chǔ),近代光電、通訊或是鐳射技術(shù)將無(wú)法有所進(jìn)展,這也顯示出光學(xué)薄膜技術(shù)研究發(fā)展的重要性。


光學(xué)薄膜系指在光學(xué)元件或獨(dú)立基板上,制鍍上或涂布一層或多層介電質(zhì)膜或金屬膜或這兩類(lèi)膜的組合,以改變光波之傳遞特性,包括光的透射、反射、吸收、散射、偏振及相位改變。故經(jīng)由適當(dāng)設(shè)計(jì)可以調(diào)變不同波段元件表面之穿透率及反射率,亦可以使不同偏振平面的光具有不同的特性。

一般來(lái)說(shuō),光學(xué)薄膜的生產(chǎn)方式主要分為干法和濕法的生產(chǎn)工藝。所謂的干式就是沒(méi)有液體出現(xiàn)在整個(gè)加工過(guò)程中,例如真空蒸鍍是在一真空環(huán)境中,以電能加熱固體原物料,經(jīng)升華成氣體后附著在一個(gè)固體基材的表面上,完成涂布加工。日常生活中所看到裝飾用的金色、銀色或具金屬質(zhì)感的包裝膜,就是以干式涂布方式制造的產(chǎn)品。但是在實(shí)際量產(chǎn)的考慮下,干式涂布運(yùn)用的范圍小于濕式涂布。濕式涂布一般的做法是把具有各種功能的成分混合成液態(tài)涂料,以不同的加工方式涂布在基材上,然后使液態(tài)涂料干燥固化做成產(chǎn)品。



真空鍍膜機(jī)鍍鋁性能與哪些因素有關(guān)


真空鍍膜機(jī)鍍鋁性能取決于塑件和鍍膜層的質(zhì)量,被人戲稱(chēng)為富人的游戲,說(shuō)明鍍膜質(zhì)量要求相當(dāng)高。鍍膜質(zhì)量的關(guān)鍵是底漆層質(zhì)量。雖有無(wú)底涂鍍膜,但其模具質(zhì)量要求和成本高,存在真空鍍膜機(jī)鍍鋁反射亮度不足和塑件缺陷等問(wèn)題,易導(dǎo)致鍍鋁產(chǎn)品報(bào)廢率居高不下。一般而言,無(wú)底涂的報(bào)廢率在10%左右,有底涂在20%左右,甚至?xí)?。為解決這一困惑,國(guó)內(nèi)有廠家經(jīng)過(guò)10多年的努力,采用了爐內(nèi)噴涂底漆并固化使鍍件生成高亮的表面(無(wú)污染殘留物),進(jìn)行高壓離子清洗預(yù)處理,真空蒸發(fā)鍍鋁和鍍保護(hù)膜,使產(chǎn)品的合格率在98%以上,每年可節(jié)省大量的噴漆、烤漆能耗和人工成本等。





AF光學(xué)鍍膜機(jī)


該設(shè)備是至成鍍膜機(jī)廠家真空針對(duì)數(shù)碼光電行業(yè)視窗鏡片及殼料加工推出的新型真空鍍膜設(shè)備,目標(biāo)對(duì)準(zhǔn)行業(yè)當(dāng)前對(duì)手機(jī)屏幕視窗蓋板、鏡頭視窗鏡片、殼體及五金件的真空涂層性能更高要求的解決方案:

性能和產(chǎn)率:提高AF(防指印或稱(chēng)AS防污染)真空膜層的性能,并通過(guò)提高設(shè)備產(chǎn)率和穩(wěn)定性、降低材料消耗來(lái)大幅降低成本。

適用性:除手機(jī)、平板電腦、車(chē)載顯示器等觸控產(chǎn)品外,也適用于在其他數(shù)碼產(chǎn)品、電器、衛(wèi)浴等塑膠和金屬件的裝飾和功能薄膜上加鍍AF、AS涂層,提高光滑度、易清潔性。



鍍膜理論


鍍膜控制穿過(guò)光學(xué)干涉機(jī)制的反射光和透射光。當(dāng)兩個(gè)光束沿著同步路徑傳輸及其相位匹配時(shí),波峰值的空間位置也匹配并將結(jié)合創(chuàng)建較大的總振幅。當(dāng)光束為反相位(180°位移)時(shí),其疊加會(huì)導(dǎo)致在所有峰值的消減效應(yīng),導(dǎo)致結(jié)合的振幅降低。這些效應(yīng)被分別稱(chēng)為建設(shè)性和破壞性的干涉。

光的波長(zhǎng)和入射角通常是的,折射率和層厚度則可以有所不同以?xún)?yōu)化性能。上述的任何更改將會(huì)影響鍍膜內(nèi)光線(xiàn)的路徑長(zhǎng)度,并將在光透射時(shí)改變相位值。這種效應(yīng)可簡(jiǎn)單地通過(guò)單層增透膜例子說(shuō)明。當(dāng)光傳輸穿過(guò)系統(tǒng)時(shí),在鍍膜任一側(cè)的兩個(gè)接口指數(shù)更改處將出現(xiàn)反射。為了盡量減少反射,我們希望它們?cè)趥€(gè)接口重組時(shí),這兩個(gè)反射部分具有180°的相位移。這個(gè)相位差異直接對(duì)應(yīng)于aλ/2位移的正弦波,它可通過(guò)將層的光學(xué)厚度設(shè)置為λ/4獲得良好實(shí)現(xiàn)。



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