濟(jì)南藍(lán)光同茂廣告標(biāo)牌設(shè)備公司是一家集研發(fā)、生產(chǎn)和銷售于一體的國內(nèi)高新企業(yè)。

蝕刻機(jī)介紹 

蝕刻機(jī)可以分為化學(xué)蝕刻機(jī)及電解蝕刻機(jī)兩類。在化學(xué)蝕刻中是使用化學(xué)溶液，經(jīng)由化學(xué)反應(yīng)以達(dá)到蝕刻的目的，化學(xué)蝕刻機(jī)是將材料用化學(xué)反應(yīng)或物理撞擊作用而移除的技術(shù)。蝕刻機(jī)主要應(yīng)用于航空、機(jī)械、標(biāo)牌工業(yè)中，蝕刻機(jī)技術(shù)廣泛地被使用于減輕重量儀器鑲板，銘牌及傳統(tǒng)加工法難以加工之薄形工件等之加工。

抗蝕刻層： 

抗蝕刻層大概為油墨或濕膜二種，現(xiàn)階段有店家發(fā)布了噴墨打印機(jī)復(fù)印抗蝕刻油墨，但精度是不是能做到產(chǎn)品規(guī)定，必須靠慮。 油墨的包裝印刷方法比較多，能夠依據(jù)不一樣的產(chǎn)品開展選 擇，大致而言有下列幾類： 傳統(tǒng)式手動(dòng)式或全自動(dòng)包裝印刷：只有單雙面包裝印刷。 絲網(wǎng)印刷機(jī)：優(yōu)勢較為顯著，施膠速度更快，可單雙面施膠或兩面途布。 曝光機(jī)： 曝光機(jī)現(xiàn)階段大概有幾種，一是傳統(tǒng)式風(fēng)冷式小輸出功率的曝光機(jī)，像這類曝光機(jī)精度差，低，只適合做簡易的標(biāo)識(shí)牌產(chǎn)品。 若想做的產(chǎn)品，提議功率大的水冷式曝光機(jī)，或LED平行面曝光機(jī)。此2款型號(hào)都有優(yōu)點(diǎn)和缺點(diǎn)，水冷式曝光機(jī)輸出功率大，耗能高。而LED曝光機(jī)是屬冷光燈曝光機(jī)，耗能低，精度也罷，但是就是說價(jià)錢較為高。但這2款型號(hào)，燈源也平穩(wěn)，產(chǎn)品合格率也高。但實(shí)際采用哪家能夠依據(jù)分別要求開展挑選。 

　刻蝕機(jī)和光刻機(jī)的區(qū)別：光刻機(jī)把圖案印上去，然后刻蝕機(jī)根據(jù)印上去的圖案刻蝕掉有圖案（或者沒有圖案）的部分，留下剩余的部分?？涛g相對(duì)光刻要容易。如果把在硅晶體上的施工比成木匠活的話，光刻機(jī)的作用相當(dāng)于木匠在木料上用墨斗劃線，刻蝕機(jī)的作用相當(dāng)于木匠在木料上用鋸子、鑿子、斧子、刨子等施工。蝕刻機(jī)和光刻機(jī)性質(zhì)一樣，但精度要求是天壤之別。木匠做細(xì)活，一般到毫米就行。做芯片用的刻蝕機(jī)和光刻機(jī)，要到納米?，F(xiàn)在的手機(jī)芯片，如海思麒麟970，高通驍龍845都是臺(tái)積電的10納米技術(shù)。10納米有多小呢？打個(gè)比方。如果把一根直徑是0.05毫米頭發(fā)絲，按軸向平均剖成5000片，每片的厚度大約就是10納米?，F(xiàn)在先進(jìn)的光刻機(jī)是荷蘭的ASML公司，到10納米。臺(tái)積電買的都是它的光刻機(jī)。ASML公司實(shí)際上是美國、荷蘭、德國等多個(gè)國家技術(shù)合作的結(jié)果。因?yàn)檫@方面的研究難度太大，單個(gè)國家完成不了。除了ASML，世界上只有我們還在光刻機(jī)上努力研發(fā)。