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寧波合金電鍍加工信息推薦

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發(fā)布時間:2020-11-15 13:32  






電鍍槽電源的串聯(lián)法如何應(yīng)用?

電鍍槽的串聯(lián)接法是鍍槽中一槽之陽極與第二槽的陰極連接,第二槽的陽極與第三槽的陰極連接,依此類推,一槽的陰極與后一槽的陽極與電源相接。

電流通過鍍槽的數(shù)量,是根據(jù)各槽的電阻而定,各槽內(nèi)陰極面積相同時,則電流密度相同,陰極面積不相同時則電流密度也不同,沉積速度亦有差異,電路上的電流,處處相等。因?yàn)殡娏鲝碾娫匆稽c(diǎn)起,除了通過這個電路之外,并無其它通路可以回到電源的另一點(diǎn),因此電路上各點(diǎn)的電流必定相等??傠娮璧扔诟鞣蛛娮柚?,電阻串聯(lián)后,總電阻增大??傠妷旱扔诟鞣致冯妷褐?,所以在實(shí)際使用時,電源電壓要比各分路電壓高,才能使各鍍槽得到額定的電壓。這種接法的優(yōu)點(diǎn)是節(jié)省設(shè)備。但缺點(diǎn)是必須在各槽內(nèi)電極連接好后,電流才能通過,任何一極斷開,電流都不能通過。而且要求電源供電電壓較高,各鍍槽溶液特性及鍍件面積要相同,如果不相同則很難應(yīng)用。



赫爾槽是電鍍監(jiān)控大槽生產(chǎn)的得力助手

電鍍工藝試驗(yàn)和鍍液故障分析中廣泛采用“正交試驗(yàn)法”,因?yàn)椴捎谩罢辉囼?yàn)法”可以用較少的試驗(yàn)次數(shù),獲得較優(yōu)的試驗(yàn)結(jié)果。我們認(rèn)為,在工藝試驗(yàn)和鍍液故障分析中如果能把“正交試驗(yàn)法”和赫爾槽試驗(yàn)結(jié)合起來,將可采用更少的試驗(yàn)次數(shù)而獲得試驗(yàn)結(jié)果。

赫爾槽是一種小型快速電鍍試驗(yàn)槽,在赫爾槽中,陽極和陰極是相互傾斜安放的,其陽極兩端和陰極兩端距離不等,因此赫爾槽陰極試樣的電流密度范圍極其廣闊,只要通過一次試驗(yàn)就可以根據(jù)不同電流密度上鍍層狀況來了解鍍液的性能。

在工藝試驗(yàn)和鍍液故障分析時,把“正交試驗(yàn)法”和赫爾槽試驗(yàn)結(jié)合,可以在多因素試驗(yàn)中減少電流密度這一因素,減少很多的試驗(yàn)。我們在進(jìn)行快速電鑄鎳試驗(yàn)時,若采用“正交試驗(yàn)法”在普通小型電鍍槽中進(jìn)行試驗(yàn),需要試驗(yàn)27次,(若不用“正交試驗(yàn)法”需試驗(yàn) 4455 次 ),而采用“正交試驗(yàn)法” 在赫爾槽中進(jìn)行試驗(yàn),只用12 次試驗(yàn)就得到很好的試驗(yàn)結(jié)果,大大節(jié)省了試驗(yàn)時間和試驗(yàn)費(fèi)用。在鍍液故障分析中,如果能在實(shí)踐中建立每個鍍槽故障赫爾槽試驗(yàn)樣板的原始記錄,通過比較就能減少更多的試驗(yàn)次數(shù)。

在電鍍生產(chǎn)中,為了監(jiān)控電鍍質(zhì)量變化,必須對各種鍍槽的溶液尤其是光亮鍍鎳和新工藝鍍液定期進(jìn)行赫爾槽試驗(yàn),制作每種鍍液的赫爾槽試驗(yàn)故障樣板,建立每個鍍槽故障樣板的原始記錄,每次赫爾槽試驗(yàn)的陰極板應(yīng)與原始記錄故障樣板進(jìn)行比較,若槽液逐漸接近某一樣板,說明故障將要發(fā)生,就可以及時處理,消滅故障的隱患。




電鍍工藝對高精密pcb的重要性

電鍍工藝填過孔的高精密pcb在過孔時,經(jīng)過封裝成芯板后能承受住熱沖擊循環(huán),在一些情況下,例如,在基板厚度為60μm、基底銅為5μm的板上,也可以通過電鍍工藝填充直徑為100μm的通孔來取代之前的盲微孔。整個工藝與激光打孔后,降低了生產(chǎn)成本,提高了生產(chǎn)效率。

在水平電鍍生產(chǎn)線和垂直電鍍生產(chǎn)線中,采用不溶性磷銅陽極電鍍工藝可以保證鍍層達(dá)到預(yù)定要求,特別是對于以便攜式電子產(chǎn)品或集成電路板產(chǎn)品為主的高密度互連板(HDI)而言。該工藝的一個顯著優(yōu)點(diǎn)是能連續(xù)地向鍍液中供給穩(wěn)定的Cu2 離子,使鍍液中Cu2 離子的濃度穩(wěn)定在一定的水平上,有利于長時間填充盲孔。

采用臥式脈沖電流電鍍生產(chǎn)線,調(diào)整鍍液參數(shù)和鍍液條件,是一種新型的超填充高密度互連板通孔工藝。該工藝能成功地填充15μm涂層上凹陷小于10μm的盲孔。新開發(fā)的工藝還可以生產(chǎn)50μm寬、線間距的板材。鍍層厚度非常均勻。據(jù)調(diào)查,這種半加成法在薄銅板上鍍銅,是制PCB電路板的常用方法。全板化學(xué)鍍銅的首要任務(wù)是改善銅沉淀溶液的組成,調(diào)整沉銅參數(shù),在沉銅前的圖形轉(zhuǎn)移,在沉銅后填充盲孔,以及電鍍用緩蝕劑的閃光腐蝕參數(shù)和性能。




鍍金的特點(diǎn)和應(yīng)用

由于黃金的價值和金屬特性,所以鍍金的質(zhì)量不光由其附著力,均勻度和光澤度決定,主要還是由鍍金的厚度來決定。

鍍金不但可以對非黃金材料進(jìn)行鍍金處理,也可以對黃金材料制品表面進(jìn)行鍍金,主要還是為了提高光澤度。

而對于非黃金材料進(jìn)行鍍金,主要就是起到裝飾和替代作用,以此來達(dá)到有黃金制品一樣的觀賞效果和價值,如奧運(yùn),奧斯卡小金人等,雖然只是表面鍍金但達(dá)到了觀賞效果和價值。

鍍金層的延展性好,硬度不高,易拋光,耐高溫不易變色的特點(diǎn),非常適合用在各種工藝品,首飾等產(chǎn)品上。

還可利用鍍金層易焊接,耐腐蝕,低電阻,導(dǎo)電性好的特點(diǎn),可廣泛用于電路板,集成電路之中。



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